镀膜技术十个主要问题及答案
7 E4 J% G% g$ N5 g2 p/ l问题： " a* h; N: d' T7 @0 F& V
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一、镀膜技术可区分为那几类? 1 u& \9 i, e& { F5 B P K
$ W3 K2 a$ h7 |1 {, }二、常用的真空帮浦有那几种?适用的抽气范围为何? J5 \) Z8 y4 y, q1 g
9 [- f! k9 R/ k2 `8 h三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?
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+ [9 Q$ _% c- E四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?
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. P( e8 h$ G) X) P五、真空蒸镀可应用在那些产业?
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六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点? ! z2 A: d( \% s- a3 E
1 l; e3 b) _; T* q& Q
七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤? * j5 E X* }3 F0 i$ b# X
) n. p1 J; l8 ] Q) l; F八、电浆辅助VCD系统具有何特色?
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' {. b' K* u' z& d( @8 O% R$ e) c九、CVD制程具有那些优缺点? 5 q" E" ^( O2 A' }
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十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上? , |& r6 G2 w9 L; T% k5 U0 O, b
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十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得?
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* r0 W1 P! [% X c' c4 {十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性? . } f! U: `. g3 G* P
' A/ H/ `; {; d, C- y! Q十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?
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十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性? 9 Q/ {; b; C; D3 T$ s9 f5 c$ t' ]
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十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？ ; ~6 I! [ c, l- n2 w( K" Y
; ]( A( R1 m6 d3 s. L+ ~' R* C十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些?
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' o0 k' K5 c3 X p* N6 V# \' R十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何?
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; A- \4 F& X2 R. O# S+ C+ [1 x1 {3 h: Y十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性?
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十九、膜厚的量测方法有那些?
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) w) M6 A* `2 T# x A二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤? |
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发表于 2005-12-29 21:07:58
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