镀膜技术十个主要问题及答案
1 R Y6 z+ ~- p) V$ Y# o. i问题： . m/ U% h' q& O+ s+ y' C3 v: e% R
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一、镀膜技术可区分为那几类? % |( M2 l4 T* W
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二、常用的真空帮浦有那几种?适用的抽气范围为何?
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三、电浆技术在表面技术上的应用有那些? ) f) |7 J1 l) h4 ~7 y; s, G- d3 C7 B
3 v2 H, ?% E# c8 v! G0 i9 v四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?
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0 _0 i, n1 w J4 ]( G( u五、真空蒸镀可应用在那些产业? * o' d0 z# t$ @% b+ X: m1 P
6 b! w6 X5 C# P" K( r六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点? ' e2 [/ _! \1 b
2 ~% i1 T: M s9 K5 k3 W+ @2 P" ]七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤? 1 P6 ?' J! r8 n R2 t# J9 x
2 r- n' ?/ n( W3 G. ]! r, i八、电浆辅助VCD系统具有何特色?
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2 Z% y, r3 U9 U* U @; b8 V九、CVD制程具有那些优缺点?
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/ @" E% C( O8 Z3 l+ n! z: V& |十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上? 3 y- W- N! b( U
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十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得? $ D% j4 v- T8 C5 U8 L0 V
1 Y0 c" \- Z1 M0 n% ], s8 V
十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性? 8 M" P) V; q5 c; o+ u8 {4 h- K2 E
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十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?
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" ^' T6 V9 ]4 ^8 y* V/ M十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性?
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十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？
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十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些?
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3 s$ l' J. x& @, r1 f# f% z* z' C十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何?
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十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性? * F3 C& g# ^- V7 k9 t, a" T
+ |! F+ J% v. q十九、膜厚的量测方法有那些?
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, J( m4 ]4 ~& P c/ J二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤? |
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发表于 2005-12-29 21:07:58
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