镀膜技术十个主要问题及答案

awoo

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镀膜技术十个主要问题及答案
问题：
9 B* [2 U1 {( t
% D$ Q6 n8 z/ j. H  I: Q: L8 g一、镀膜技术可区分为那几类?

' M" {7 W9 C- x8 D二、常用的真空帮浦有那几种?适用的抽气范围为何?
3 A, }: _/ q  s( |$ e( V( l
" o5 \; H: g( m8 e2 p6 f三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?

7 U. P, |6 z3 j. n9 O' z1 I' o/ C, K7 K四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?

五、真空蒸镀可应用在那些产业?
% R9 f8 ]% p: {; h4 r* S* p4 Y
六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点?
6 S" F2 s7 }3 f  @$ G* I
七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤?
: i% [& L+ `  C; x$ a
八、电浆辅助VCD系统具有何特色?
8 w# j1 J' `4 }2 P+ p5 D; @
/ Y# Q6 w5 w$ L九、CVD制程具有那些优缺点?
* J" i# N' B: Z2 f6 f+ K& l
十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上?
5 d$ d/ F: _; i1 r
十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得?

9 w5 a0 s6 z# v! G0 n十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性?
* U! ?' `: M8 z& l
8 ^3 Y: H9 E# }" t5 I' @- X十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?

十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性?
: ]' M5 j8 [9 B# k- \
% W' e, k% m, t5 a  M( @十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？
! X, b9 t2 d! g& q# v
, W3 o$ a2 m+ F( Q2 X! M7 O+ W十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些?
% S  S2 v/ J3 n& R. x
# U3 W" [3 W# I" ?7 y十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何?
' `! {2 P! ]9 X. J( M3 T7 g  j. ]
+ _9 ?1 P: s) p十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性?
+ a+ \9 `$ ~7 f! g' K5 {
十九、膜厚的量测方法有那些?
: |; p$ c, z6 ]' i4 g6 Y
! y5 N0 P6 Y5 M- Z二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤?

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onehorse66

问得好，似乎还没有人总结过

chenchen22

很想得到答案。。。。

shj1128

看看！！！

uiango

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miloyy

看看答案是什么

九门

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zhangsf

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