镀膜技术十个主要问题及答案
t4 h: a& S, T; Y9 `3 D问题：
% N+ u% |4 [* P9 W 0 c8 v. A# @5 ^ [0 @7 v7 R% H
一、镀膜技术可区分为那几类? , I1 z! @) h" N1 d `. @6 N
( g% x8 l' f0 l; l! W/ i二、常用的真空帮浦有那几种?适用的抽气范围为何?
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三、电浆技术在表面技术上的应用有那些? / N \$ r( K2 x
! x- }; H! ]8 J% C7 S
四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点? 6 w) w' Y; d* z5 ?7 a: H
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五、真空蒸镀可应用在那些产业? 7 T6 Q+ c6 J% C" M1 \6 n7 `( {4 U
( ]( d5 l2 X" n( K( Z1 c
六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点?
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七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤?
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八、电浆辅助VCD系统具有何特色? ! U( h/ R* Q O6 |" l* r
* A# k1 G3 e7 ^, h7 s: Q4 y$ [
九、CVD制程具有那些优缺点? ) x" i; P. `* ~4 g9 P1 m
% s3 ?: n1 v$ }& N3 m. Y0 Z; r十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上? ) r1 X& h9 M; e2 E) F: H
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十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得? 5 X$ A# o0 X+ [$ p' J$ u( |
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十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性? 0 m1 Y; J6 Z" ~9 p% S
- Y( m4 D5 x) e3 O1 B十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性? / j4 V. }( O$ |1 b3 s
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十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性?
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十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？
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5 e# v- Y I4 z! y5 s2 _. x十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些? 7 `1 S! j2 ]. U% O
( X( |5 p( F0 F十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何? 8 }! V9 b$ {+ O) M
% {" [. M4 ~! s) L十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性? * U5 f3 F3 e. `1 s0 I
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十九、膜厚的量测方法有那些?
9 |) d3 L7 s5 X q ) _/ U7 H' C' I+ B f8 v# }' n2 k
二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤? |
发表于 2007-11-26 21:27:09
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