镀膜技术十个主要问题及答案
$ |5 W1 P2 o' @6 A$ [4 s$ e问题： @$ k, p, v$ u; B
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一、镀膜技术可区分为那几类? $ ^" y2 r4 Y* D ^! r
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二、常用的真空帮浦有那几种?适用的抽气范围为何? ' Y9 I }! e# L: C( F2 O. V- m% D
* V8 j; b5 Q! C1 x3 Y% R三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?
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四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?
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5 B2 n% M0 ?$ k$ o7 j' ]五、真空蒸镀可应用在那些产业?
6 v$ v! M% A+ q 6 `1 [1 Y7 U! A& r. f) r. F
六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点? - g5 K+ K5 s& e
/ z/ X, w: n7 d$ S- x七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤?
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/ W1 r. M' E+ z% A. v' K八、电浆辅助VCD系统具有何特色? % a, D/ e' i, G0 L' z
* N' } Y9 o, ~9 j7 s" z8 H! w
九、CVD制程具有那些优缺点?
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' _0 ?, U, i) G* J K十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上?
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十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得? 6 m& K4 l: I" Y$ X
, u0 O& x/ o5 `! ]- ^十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性? ! ~0 R! B% X' h) j% H z/ T+ V ^
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十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?
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十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性?
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# A- [; \3 p3 e# @8 ?4 B5 P6 u十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？
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/ O0 t% n; ~# d0 o十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些? 6 d5 M7 |* F W" h! ?* W, i5 C
8 z5 F5 w `" F- G6 g9 q+ I2 L7 J十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何? 6 X6 B9 q' G. v! |4 h3 A8 j
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十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性?
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; _/ E* ?( d ?& U9 e, p5 K# n十九、膜厚的量测方法有那些?
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2 i d7 ^& l# F+ F$ h1 m: B) g二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤? |
发表于 2007-11-26 21:27:09
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