镀膜技术十个主要问题及答案% Y/ g, S8 @% D
问题：
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/ m5 D! K3 }# i+ _0 e$ x& j一、镀膜技术可区分为那几类? ( f, F' z) I" d( G/ Y
. V- Q8 s! H/ ]- z% T! J二、常用的真空帮浦有那几种?适用的抽气范围为何? 7 c; k& I1 ?, u5 _& \: y" X# c
4 J9 q3 T1 w8 G$ m! {+ M三、电浆技术在表面技术上的应用有那些? ; W5 v% U( ]+ p" K
! ]$ q% l+ W' N四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点? ' x/ E! o8 b" J$ V) {3 O
. q7 g5 v2 ~" t五、真空蒸镀可应用在那些产业?
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六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点? ) y7 N- Q s9 y! R) A% s
+ g1 g2 o, o7 | T8 \2 t4 w4 T. `七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤?
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1 a0 U2 Q! X* |8 i. X* U八、电浆辅助VCD系统具有何特色? - Q: p% d* ]& j8 Z
* A, ?5 K* r, M1 G: k6 y8 y九、CVD制程具有那些优缺点?
7 k* E$ @7 y- Q0 l5 }2 r0 X
: u* G3 ^5 ^3 n' k3 f& X3 q十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上?
" c3 ]( ?8 s6 T) e% M6 ~& Z2 | : c4 v( D/ C0 Y* J
十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得? - Z6 \; j7 b c5 V9 V0 i* B
3 \0 e) K H5 q* A) O v
十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性? $ G% N+ Y) O! ^$ s9 z
' J; z. n) f) m' ?7 E
十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性? , j; Q3 v x2 C3 a7 B
9 X* S1 \3 f0 z2 ~; S十四、使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性?
) z/ l. V2 Y6 m' d
3 r1 ?) i \& E' C十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些？
, q2 V5 z0 u: W! }3 |" n 0 z7 O p6 v. d% H
十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些? . k9 b8 b+ [% l u
" ?4 |; r, T9 l5 [
十七、沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何? 8 B8 T0 W" e; ? }
$ C( i7 B; D, n7 {. L6 i
十八、薄膜要有良好的附着力，必须具有那些基本特性?
) v* M( N Q6 M
+ k' X, c+ ^' |7 p: b十九、膜厚的量测方法有那些?
4 m9 F( u8 Q# v0 H * [4 N/ P+ f! R+ x1 N/ P
二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤? |
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发表于 2007-11-27 05:27:09
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