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发表于 2008-12-7 08:39:39
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不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究 Study on the thickness uniformity of films deposited by magnetron sputtering or unbalanced magnetron sputtering 作者:惠迎雪,杭凌侠,徐均琪,陈伟, 期刊-核心期刊 西安工业学院学报JOURNAL OF XI'AN INSTITUTE OF TECHNOLOGY 2003年 第01期 |
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