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发表于 2007-9-14 03:34:04
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我以前镀膜也遇到这种问题,作较少层时其实也有这种Haze,只不过我们的肉眼看不到,这时薄膜在可见光波段的反射率不高(比如你做AR时),这样我们可能就看不到这种Haze。
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2 D. ^" g! @7 C8 N当你做较多层膜(常用的filter,反射镜),它在可见光的某个波段,肯定存在较强的反射(反射率很大>90%),这样我们肉眼就能很明显的看到薄膜中存在这种雾蔼(Haze)。
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9 e: P- B, s' U/ j9 j9 l这种Haze对薄膜的性能影响不是很大,但是对外观的影响却是很头疼的(薄膜外观要求其实和性能要求同等重要,有时更甚)。可能的原因是:
2 j/ W* J7 s5 k: A1 m1 d- \1 环境的湿度较大,导致基片吸附一些水份,这种吸附的水分是很难擦拭掉的,而且抛光精度越低的基片,这种情况越严重。
$ P1 S- ?$ e, g+ N2 清洗液配比以及擦拭方法的问题,往往会导致基片表面会留下擦痕,镀前很难发现,只有镀后才能看到
) r, c& J) J1 x3 靶材可能潮湿。9 w/ ~" H2 [3 d( M& l3 y( q
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我是这样做的,可以明显减少这种Haze,4 J h. j$ ?3 k7 m1 G D
1 基片要擦的一点痕迹都没有,可对着强光灯看,这样可以判断表面有没有擦拭留下的痕迹;. a1 M3 n- V8 v( G( ~2 K
2 镀膜前真空腔内烘烤2~3个小时。" P- G; }; T) v- R
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我是中科大-Shincron薄膜材料与工艺联合实验室的,希望能和大家多交流交流!共同进步! |
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