镀膜完成后遇到的hazy问题

clevergary

最近在镀膜时遇到了一些困难，希望大家帮忙一起讨论下。
& n1 H" j) }5 B/ B. T* q* tSubstrate: B270
材料：SiO2, Ti2O3
我们用同样的材料和环境做比较少层的镀膜时没有任何问题，但是每次一旦进行比较多层次（30多层以上）的镀膜时(做的是可见光谱内的滤光镜片)，就会发现完成以后我们的玻璃看起来雾蒙蒙的（hazy）。请问大家有遇到过这种情况吗？还希望大家能够帮我一起分析下，找出问题的原因。谢谢。

tfc3.5

正常。

awoo

我以前镀膜也遇到这种问题，作较少层时其实也有这种Haze,只不过我们的肉眼看不到，这时薄膜在可见光波段的反射率不高(比如你做AR时)，这样我们可能就看不到这种Haze。
) r: A$ f  M" i& P$ T
7 y7 H  S2 J! U6 L0 a3 t当你做较多层膜(常用的filter，反射镜)，它在可见光的某个波段，肯定存在较强的反射(反射率很大>90%),这样我们肉眼就能很明显的看到薄膜中存在这种雾蔼(Haze)。
' G, u! \$ N, O; ~5 l. V& Q: S9 d
; g/ r0 P6 _1 V这种Haze对薄膜的性能影响不是很大，但是对外观的影响却是很头疼的(薄膜外观要求其实和性能要求同等重要，有时更甚)。可能的原因是：
. m' {; z; A5 P' j9 T1 环境的湿度较大，导致基片吸附一些水份，这种吸附的水分是很难擦拭掉的，而且抛光精度越低的基片，这种情况越严重。
2 清洗液配比以及擦拭方法的问题，往往会导致基片表面会留下擦痕，镀前很难发现，只有镀后才能看到
* v9 w5 l$ v: p* {7 I3 靶材可能潮湿。
! E$ }+ {( s8 x4 w
我是这样做的，可以明显减少这种Haze,
! s) {. i( V1 q, B- Q; `* W2 c/ v1 基片要擦的一点痕迹都没有，可对着强光灯看，这样可以判断表面有没有擦拭留下的痕迹；
2 镀膜前真空腔内烘烤2～3个小时。

  T7 {8 n! u6 X' S. y) u我是中科大－Shincron薄膜材料与工艺联合实验室的，希望能和大家多交流交流！共同进步！

clevergary

多谢2楼的回复。我试过在镀膜前烘烤，的确有效，但是haze依然存在。现在考虑是否会和我们的抛光或者超声波清洗过程有关。

rainbow

是不是和你的气体有关啊

zbx328

新手,学习!

rotarynife

以前镀膜也遇到这种问题,SIO2跟温度有關係,不知你的温度是多少,曾用大約200~250度,有明顯改善
5 a& V: a/ K: k" I7 L可以調調温度看看

jinbo8125

awoo   你好，大家好，我们公司用的也是Shincron的镀膜机，真的haze现象特别的严重，导致废品率高，非常头疼的问题。
( z- h' x3 y( K+ l% X
有以下问题：
+ H" U  K1 V1 A3 Y$ U1. 不知道是不是我们的镀膜机本身有某种不足在里面？
5 R( @: {7 l) P/ w+ g  u5 L1 [" U/ F# J2. 首先靶材问题是可以去除的因为我们的机子基本上不停一直工作，镀膜室保持较高真空度；抛光的问题很难确定，但是清洗肯定是有很大的关系，主要是清洗液吧，肯定是有影响的，至于清洗的方法不好说因为同样的方法而haze却是时有时无；烘烤，应该是个好方法吧，回头试试，不过你说的2-3h是不是有点长？还有温度多高？
4 p- I/ X# i' g; F3. 气体的问题应该不大，我们用的气体都是同一家公司的。
4. 早就知道你们那边有Shincron的机子，不知道你们的型号，我们的是1100，适合生产的镀膜机，你们做不做产品？怎么养活它，很耗钱的哦。

. `: Y# g9 f# E: V' M; C4 Y本人联系方式：jinbozhu@yahoo.cn
7 G# ~9 V$ R3 x, B9 G3 a8 v& Q# P希望大家多多指导，交流！

bakgy

TI2O3膜到一定程度后自身就会发雾很严重，要想解决这个问题最好还是换一种材料。

jinbo8125

我用的是SiO2，NbO。估计膜料的影响不是主要的。