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发表于 2007-9-13 19:34:04
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我以前镀膜也遇到这种问题,作较少层时其实也有这种Haze,只不过我们的肉眼看不到,这时薄膜在可见光波段的反射率不高(比如你做AR时),这样我们可能就看不到这种Haze。
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/ w- s, R+ _7 G. W当你做较多层膜(常用的filter,反射镜),它在可见光的某个波段,肯定存在较强的反射(反射率很大>90%),这样我们肉眼就能很明显的看到薄膜中存在这种雾蔼(Haze)。
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这种Haze对薄膜的性能影响不是很大,但是对外观的影响却是很头疼的(薄膜外观要求其实和性能要求同等重要,有时更甚)。可能的原因是:" c4 ~2 e$ Z6 o2 Z
1 环境的湿度较大,导致基片吸附一些水份,这种吸附的水分是很难擦拭掉的,而且抛光精度越低的基片,这种情况越严重。
; O K- `3 M0 u) e0 p4 s1 [2 清洗液配比以及擦拭方法的问题,往往会导致基片表面会留下擦痕,镀前很难发现,只有镀后才能看到2 U$ @/ Y% I) o0 R7 f9 z$ o& {
3 靶材可能潮湿。
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我是这样做的,可以明显减少这种Haze,& `5 n$ x: R+ r0 O
1 基片要擦的一点痕迹都没有,可对着强光灯看,这样可以判断表面有没有擦拭留下的痕迹;8 \: P0 H! H& \* ~
2 镀膜前真空腔内烘烤2~3个小时。7 n, z- ~ K5 H9 d/ w0 u' O0 e
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我是中科大-Shincron薄膜材料与工艺联合实验室的,希望能和大家多交流交流!共同进步! |
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