光学薄膜基本理论及技术

woaidumo

光学薄膜应用于各种反射和投射光学元件，常用的典型光学薄膜的例子有： 减少光在元件表面反射的增透膜；使光在给定波长范围内透过的滤光片窗口；在反射镜中使用的高反射膜等。
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# p* S3 O. t' F/ Y1 U; M  N4 }4 J3 j  如果入射光有角度，光通过元件时将产生偏振，光学薄膜可以针对入射角度、S偏振光、P偏振光和随机偏振光进行设计。如果光学薄膜按照0度入射光进行设计，就不能在45度表现出我们预期的光学性能。
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! N" H( F- x3 H4 O& E* }' O  光学薄膜的镀制是通过在元件表面沉积介质和金属材料如SiO2,TiO2, 或铝，典型的薄膜其每一层的厚度相当于1/4所使用的波长，高折射率的材料和低折射率的材料交替沉积，产生所需要的干涉效果。　　
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. x  b: c9 D, i% s9 r光学薄膜技术：

IBS： 离子束溅射，由离子源产生带能量的离子，溅射到基片表面。
PVD: 物理蒸发沉积，通过电子枪作用于镀膜材料上， 产生电子束，均匀沉积于镀膜元件上。
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! K* W3 v: e7 `) S* ?7 ?0 g/ m: j相关名词：

  石英晶体膜厚控制（Crystal Thickness Control)：石英晶体的重量的微小变化将会导致其振荡频率的变化，因此，在镀膜过程中，我们把石英具体探测头置于真空室内，通过石英晶体的频率变化来控制镀膜的厚度。

  介质（Dielectric)：从紫外、可见到近红外波长都有较高的透过率（很小吸收）的材料称为介质材料。

  光学监控（Optical Monitoring)：在镀膜过程中，直接测量置于真空室内的比较片的反射或透射的设备。在一些情况下，光控有比较高的测量精度。

  光学薄膜（Thin Film)：任何在光线透过或反射时产生增加或减少干涉效果的薄膜。

windrain_34

有点太基本了吧，呵呵，]不过还是要鼓励下。。

xfc

有没有具体一点的,比如针对棱镜方面的一些技术要点。

一叶枫

光学薄膜基本理论及技术

光学薄膜应用于各种反射和投射光学元件，常用的典型光学薄膜的例子有： 减少光在元件表面反射的增透膜；使光在给定波长范围内透过的滤光片窗口；在反射镜中使用的高反射膜等。 [_ATAWx  
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如果入射光有角度，光通过元件时将产生偏振，光学薄膜可以针对入射角度、S偏振光、P偏振光和随机偏振光进行设计。如果光学薄膜按照0度入射光进行设计，就不能在45度表现出我们预期的光学性能。 ";@L83PN  
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6 v# I- Z0 i6 m6 A, X- w4 ]光学薄膜的镀制是通过在元件表面沉积介质和金属材料如SiO2,TiO2, 或铝，典型的薄膜其每一层的厚度相当于1/4所使用的波长，高折射率的材料和低折射率的材料交替沉积，产生所需要的干涉效果。　　 LlE(*aE  
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) _9 ?# U. u& r2 h- P1 d" Y$ U9 w- K5 GIBS： 离子束溅射，由离子源产生带能量的离子，溅射到基片表面。 hvu8:PCC  
' h9 d+ i2 [; o) ?# s2 \; \PVD: 物理蒸发沉积，通过电子枪作用于镀膜材料上， 产生电子束，均匀沉积于镀膜元件上。 k|9=V=  
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相关名词： 0)|SJx  
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" O3 }' G5 U# c9 S石英晶体膜厚控制（Crystal Thickness Control)：石英晶体的重量的微小变化将会导致其振荡频率的变化，因此，在镀膜过程中，我们把石英具体探测头置于真空室内，通过石英晶体的频率变化来控制镀膜的厚度。 N|B?^jr(|,  
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介质（Dielectric)：从紫外、可见到近红外波长都有较高的透过率（很小吸收）的材料称为介质材料。 izRye"tq  
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# R; n$ o, F% g/ |& Y8 q, f) x光学监控（Optical Monitoring)：在镀膜过程中，直接测量置于真空室内的比较片的反射或透射的设备。在一些情况下，光控有比较高的测量精度。 FFcCUivV_  
: n" O, S4 T  b' p. ~9 M: @Jw (d,J  
: ~: |- Q2 B: }" B- y1 I光学薄膜（Thin Film)：任何在光线透过或反射时产生增加或减少干涉效果的薄膜。

tswcbyy

hehe

wwjin5

02133

gxkanelg

不错的  不过干吗都要钱要威望的 累 急用阿

maxiao23

ddddddddd非常感谢

lhb696

达到了,很好