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发表于 2006-11-28 03:37:24
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光学薄膜基本理论及技术
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* G6 a/ S; A5 j p B7 m& a- f光学薄膜应用于各种反射和投射光学元件,常用的典型光学薄膜的例子有: 减少光在元件表面反射的增透膜;使光在给定波长范围内透过的滤光片窗口;在反射镜中使用的高反射膜等。 [_ATAWx ' o U u/ L4 n# `, q
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如果入射光有角度,光通过元件时将产生偏振,光学薄膜可以针对入射角度、S偏振光、P偏振光和随机偏振光进行设计。如果光学薄膜按照0度入射光进行设计,就不能在45度表现出我们预期的光学性能。 ";@L83PN
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光学薄膜的镀制是通过在元件表面沉积介质和金属材料如SiO2,TiO2, 或铝,典型的薄膜其每一层的厚度相当于1/4所使用的波长,高折射率的材料和低折射率的材料交替沉积,产生所需要的干涉效果。 LlE(*aE / r! ]1 c+ U: _( w) Y5 W
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. j9 ?" R) A8 g, Z; Q; d! YIBS: 离子束溅射,由离子源产生带能量的离子,溅射到基片表面。 hvu8:PCC
n" A/ G. E* N+ vPVD: 物理蒸发沉积,通过电子枪作用于镀膜材料上, 产生电子束,均匀沉积于镀膜元件上。 k|9=V= / w3 q: C' H3 N
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相关名词: 0)|SJx 9 L$ j6 ` [7 b" p$ y( {1 g9 Z1 x
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石英晶体膜厚控制(Crystal Thickness Control):石英晶体的重量的微小变化将会导致其振荡频率的变化,因此,在镀膜过程中,我们把石英具体探测头置于真空室内,通过石英晶体的频率变化来控制镀膜的厚度。 N|B?^jr(|, 2 C. y8 G7 S* }
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介质(Dielectric):从紫外、可见到近红外波长都有较高的透过率(很小吸收)的材料称为介质材料。 izRye"tq
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光学监控(Optical Monitoring):在镀膜过程中,直接测量置于真空室内的比较片的反射或透射的设备。在一些情况下,光控有比较高的测量精度。 FFcCUivV_ & ]% G' W9 j; H- _( _* R$ j5 r
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光学薄膜(Thin Film):任何在光线透过或反射时产生增加或减少干涉效果的薄膜。 |
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