本帖最后由 zkyioe 于 2018-5-2 07:13 编辑
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$ k8 V5 `. X8 I0 E离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究
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9 O N% z5 \9 N9 u- S. z) o使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值.
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发表于 2018-5-1 23:11:59
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