离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究

zkyioe · 发表于 2018-5-1 23:11:59

本帖最后由 zkyioe 于 2018-5-2 07:13 编辑

离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究

使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值.

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yifeng602 · 发表于 2018-5-20 10:59:33

离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究
5 a, L1 M) {; S0 W1 W9 n6 r, H

hcatp812 · 发表于 2018-6-4 07:36:37

了解一下工艺内容

98830110 · 发表于 2018-8-4 16:15:22

学习下

卖的一手好萌 · 发表于 2018-8-5 03:42:32

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98830110 · 发表于 2018-8-17 14:05:40

学习学习

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