本帖最后由 zkyioe 于 2018-5-2 07:13 编辑
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$ }2 `& w0 y2 o7 F+ L9 W( ~离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究. R2 y' H* F, Q/ @5 X! }! w
. m# N7 C( z1 l$ z7 l7 P使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值. 9 F( m) x7 a) D7 @- \* f
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发表于 2018-5-1 23:11:59
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