本帖最后由 zkyioe 于 2018-5-2 07:13 编辑
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0 L% f4 e3 t9 @4 r离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究5 d1 G& }* U0 B% }8 M3 v7 \
, ^0 Q7 @5 D3 X# r x使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将Ta2O5薄膜置入100℃到500℃的环境中退火.通过XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值. ' Z6 M; m7 z$ d! m8 ]1 v
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发表于 2018-5-1 23:11:59
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