您真的了解镀膜工艺吗？不了解就进来看看吧

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# d5 ?0 w8 c: ?8 S导言
0 p! T% @! o) j& a# \; w镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一。这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺，从原理上了解这些工艺的异同。
简介
镀膜指在基材上形成从数纳米到数微米的材料层，材料可以是金属材料、半导体材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。镀膜的工艺可以最简略的分为化学工艺及物理工艺：
8 v. d6 D  k$ f化学方法
+ b: m5 @& Z) G通常是液态或者气态的前体材料经过在固体表面的化学反应，沉积一层固体材料层。以下常见的镀膜工艺都是属于化学工艺：
◆ 电镀(Electroplating)：
- S- Y+ ^4 h. x% x8 _% |' p, R5 Q
; Y* j/ {6 S, y+ a' l( Y◆ 化学溶液沉积 Chemical solution deposition (CSD)：
◆ 旋转涂覆法 Spin-coating：

- q4 j" H) [# ^2 t' S) R0 O◆ 化学气相沉积 Chemical vapor deposition(CVD)：
- y6 z  j/ `% h2 j
◆ 等离子增强化学气相沉积 Plasma enhanced Chemical vapor deposition (PECVD)：

. G# ?, {7 K' B1 w7 _& ~* s物理方法
使用机械的、机电的、热力的方法来产生形成固态薄膜。通常是物理气相沉积的方法Physical vapor deposition(PVD)。以下是常见的物理镀膜工艺：
◆ 热蒸发镀膜(Thermal evaporation)：
→电子束蒸发镀膜 (Electron beam evaporation); 

→离子束辅助沉积 (Ion assisted deposition IAD); 

→电阻加热蒸发镀膜(Resistive heating evaporation)；

→分子束外延Molecular beam epitaxy (MBE)

' a! \0 K0 v/ _◆ 溅射镀膜(Sputtering)：
→传统溅射，

" C! D9 h$ [0 L* ^$ J→射频溅射 RF sputtering

: s! b) ~/ ]7 O/ a- Q→离子束溅射 Ion beam sputtering (IBS)
$ O, ?! V( \; i5 R! q0 O! h( I
# _4 ~% ?" W/ x; }. p7 }. V4 ]◆ 脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition PLD)：
$ h$ X8 ^3 t* Y2 H4 ~
结语
, {( s: j5 J7 Q& |; k; }0 a6 Q0 L2 [这里给出半导体及光学镀膜工艺的一个最广泛的分类介绍，而以后的笔记中会包含对于光学镀膜最常见工艺的比较与分析，这些工艺包括E-beam, IAD, IBS。

charles2022

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yifeng602

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