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武汉理工大学
{% h' H- o) _# V硕士学位论文8 I. r. e# y6 x
磁控溅射法沉积硅薄膜的研究. p$ H) P; H7 V& Q, I7 I
姓名:刘本锋
9 [6 a5 M' K- U6 j1 I) D申请学位级别:硕士
3 `0 g4 {, _$ G. n! x& ^$ a) g# m专业:光电子及信息材料
9 ^; \3 e* g# V# N8 E( @/ D1 y指导教师:赵青南;赵修建9 F f D* G1 V8 h# B- p
200905014 d) c0 m# |: d' y- i1 h7 G
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