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武汉理工大学9 u" x& \* n) p) P* Y" ~+ c
硕士学位论文& K5 s" W: e5 F% a% G
磁控溅射法沉积硅薄膜的研究
# U1 l9 t5 F% f姓名:刘本锋
7 M* l% D1 i: ~9 O2 ~6 n; {% ?, x申请学位级别:硕士
$ O% ~+ f, I7 ^, `' I专业:光电子及信息材料
! U+ i$ G( A" j! H1 ~. B1 L1 q指导教师:赵青南;赵修建& T9 l0 a+ [0 L+ v! D
20090501: p+ ^: ^4 _, z& r' }% R) Y
下载地址:http://u.115.com/file/f7e690a9f1
7 m* q$ z, a! [! X* f. C磁控溅射法沉积硅薄膜的研究.rar3 A1 v+ Q) C9 R0 O9 e
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