|
离子束辅助沉积TiO2薄膜近红外光学特性分析
5 m0 P3 C- b2 U2 H# P 7 h" _+ M$ C# j( j/ j
. y+ _6 {. ?$ ~. P+ S
. p; s( {* s6 _+ ? 英文标题: Analysis of Optical Constant in Near Infrared Region of TiO2 Thin Film Deposited by Ion Beam Assisted Deposition T9 ?% C) q9 Z8 l, g# G. m
作者: 潘永强 ; 施洋 0 _+ \0 V/ X# q8 {
作者单位: 西安工业大学,光电工程学院,西安,710032 : S2 k/ i8 F6 @6 x! N0 Y
刊名: 西安工业大学学报
0 s* ?& ]) L% } 英文刊名: JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
3 x# \& b) e6 T+ ?5 I2 h 年/卷/期: 2009 /29 /04 , F* [& j7 L. {! {
栏目名称: 光电工程 # ^. f9 y# Q) g0 l
分类号: O484.1
: [+ E0 I& I/ K. u y 关键词: 二氧化钛薄膜 ; 近红外 ; 光学常数 ; 离子束辅助沉积
; C+ o% v; E$ o6 E1 o# f 摘要: 二氧化钛(TiO2)作为一种常用的薄膜材料,对其近红外波段光学特性的研究很少.利用正交试验法,采用椭圆仪对TiO2薄膜近红外波段的光学特性进行了研究.着重研究了薄膜沉积速率、基片烘烤温度和氧气分压等因素对TiO2薄膜近红外波段的折射率和消光系数的影响.实验结果表明,对TiO2薄膜折射率影响最大的两种因素是薄膜沉积速率和烘烤温度.随着沉积速率的增加,薄膜折射率先增加后减小,最佳沉积速率为0.4 nm/s左右;随着基片温度的增加,薄膜折射率从2.15增加到2.23左右;氧气分压也是影响薄膜折射率的主要因素之一,结果表明氧气流量为4.0 sccm(工作真空度1.4×10-2 Pa)时折射率最大.该研究为扩宽TiO2薄膜在近红外波段的应用提供了依据. |
本帖子中包含更多资源
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
|