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离子束辅助沉积TiO2薄膜近红外光学特性分析 3 d0 Z% D5 ?4 B; `3 V: @
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4 g3 ?% l* W5 b; \8 a7 ^7 ?' @6 ? 英文标题: Analysis of Optical Constant in Near Infrared Region of TiO2 Thin Film Deposited by Ion Beam Assisted Deposition 5 ?% o4 E) A- j
作者: 潘永强 ; 施洋 1 L2 x x* @' F& ?0 K& T$ G3 Q( F
作者单位: 西安工业大学,光电工程学院,西安,710032 0 F" ]0 R# p A3 V9 p
刊名: 西安工业大学学报
% v+ ~9 o- ^/ C/ O 英文刊名: JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
/ l6 _) A h" J" P- l 年/卷/期: 2009 /29 /04
" a( }' N2 V2 b9 ]* p 栏目名称: 光电工程
) e+ L3 e0 s1 l: _ 分类号: O484.1
5 ]) H) c* C) Y0 E 关键词: 二氧化钛薄膜 ; 近红外 ; 光学常数 ; 离子束辅助沉积 ! H6 f- f" f! B7 o$ E/ O
摘要: 二氧化钛(TiO2)作为一种常用的薄膜材料,对其近红外波段光学特性的研究很少.利用正交试验法,采用椭圆仪对TiO2薄膜近红外波段的光学特性进行了研究.着重研究了薄膜沉积速率、基片烘烤温度和氧气分压等因素对TiO2薄膜近红外波段的折射率和消光系数的影响.实验结果表明,对TiO2薄膜折射率影响最大的两种因素是薄膜沉积速率和烘烤温度.随着沉积速率的增加,薄膜折射率先增加后减小,最佳沉积速率为0.4 nm/s左右;随着基片温度的增加,薄膜折射率从2.15增加到2.23左右;氧气分压也是影响薄膜折射率的主要因素之一,结果表明氧气流量为4.0 sccm(工作真空度1.4×10-2 Pa)时折射率最大.该研究为扩宽TiO2薄膜在近红外波段的应用提供了依据. |
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