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离子束辅助沉积TiO2薄膜近红外光学特性分析
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) v3 S5 k! C2 \2 c. `. J 英文标题： Analysis of Optical Constant in Near Infrared Region of TiO2 Thin Film Deposited by Ion Beam Assisted Deposition
$ ~" ]( D% j; b8 G& p: i6 ?% K 作者： 潘永强 ； 施洋
7 V$ v" Q/ s( r# X 作者单位： 西安工业大学,光电工程学院,西安,710032 1 Z! o8 f* I' q) ~5 Y
刊名： 西安工业大学学报 3 t; G9 b7 M( w7 Z' `; r a
英文刊名： JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
. h6 L% t6 O9 `, Z 年/卷/期： 2009 /29 /04 . O9 e" W+ P$ v. o
栏目名称： 光电工程
7 F6 j5 p2 K. ]% a6 v. v- M 分类号： O484.1 , b5 [5 K: w0 d* J( [6 q
关键词： 二氧化钛薄膜 ； 近红外 ； 光学常数 ； 离子束辅助沉积 8 Q9 N j+ G. T1 d
摘要： 二氧化钛(TiO2)作为一种常用的薄膜材料,对其近红外波段光学特性的研究很少.利用正交试验法,采用椭圆仪对TiO2薄膜近红外波段的光学特性进行了研究.着重研究了薄膜沉积速率、基片烘烤温度和氧气分压等因素对TiO2薄膜近红外波段的折射率和消光系数的影响.实验结果表明,对TiO2薄膜折射率影响最大的两种因素是薄膜沉积速率和烘烤温度.随着沉积速率的增加,薄膜折射率先增加后减小,最佳沉积速率为0.4 nm/s左右;随着基片温度的增加,薄膜折射率从2.15增加到2.23左右;氧气分压也是影响薄膜折射率的主要因素之一,结果表明氧气流量为4.0 sccm(工作真空度1.4×10-2 Pa)时折射率最大.该研究为扩宽TiO2薄膜在近红外波段的应用提供了依据. |
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发表于 2010-3-30 01:47:19
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