|
|
离子束辅助沉积TiO2薄膜近红外光学特性分析
) g3 j( s% i/ @" _( H . ^0 W; _6 l1 J
% z$ h1 G. C4 }' q/ I0 ~ ?
$ P/ Q. S% E1 l, i |2 e& v 英文标题： Analysis of Optical Constant in Near Infrared Region of TiO2 Thin Film Deposited by Ion Beam Assisted Deposition $ h! V: L% g, l% k( ?4 E D
作者： 潘永强 ； 施洋
% [# T- h: ?4 O Q9 d 作者单位： 西安工业大学,光电工程学院,西安,710032
$ X) I+ _, }) H9 ]! |' N" J 刊名： 西安工业大学学报
; Z/ j( E: j. p( q 英文刊名： JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
5 q; f, Y: A r! p6 x3 k7 C& a- C 年/卷/期： 2009 /29 /04
6 a6 a5 F5 ?: L N* W4 F; D* w' O 栏目名称： 光电工程
# s) k. X9 Q* ]' K 分类号： O484.1 9 L u9 c* P1 H! ~# K; D f, r$ ~* W$ m0 r
关键词： 二氧化钛薄膜 ； 近红外 ； 光学常数 ； 离子束辅助沉积
% K0 H3 B c, q h! s 摘要： 二氧化钛(TiO2)作为一种常用的薄膜材料,对其近红外波段光学特性的研究很少.利用正交试验法,采用椭圆仪对TiO2薄膜近红外波段的光学特性进行了研究.着重研究了薄膜沉积速率、基片烘烤温度和氧气分压等因素对TiO2薄膜近红外波段的折射率和消光系数的影响.实验结果表明,对TiO2薄膜折射率影响最大的两种因素是薄膜沉积速率和烘烤温度.随着沉积速率的增加,薄膜折射率先增加后减小,最佳沉积速率为0.4 nm/s左右;随着基片温度的增加,薄膜折射率从2.15增加到2.23左右;氧气分压也是影响薄膜折射率的主要因素之一,结果表明氧气流量为4.0 sccm(工作真空度1.4×10-2 Pa)时折射率最大.该研究为扩宽TiO2薄膜在近红外波段的应用提供了依据. |
本帖子中包含更多资源
您需要 登录 才可以下载或查看，没有帐号？注册
x
|
窥视卡
雷达卡
发表于 2010-3-30 09:47:19
提升卡
置顶卡
沉默卡
喧嚣卡
变色卡
抢沙发
显身卡
