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[求助] 怎么样利用电子枪准确的蒸发薄层薄膜?thickness《20nm

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发表于 2009-12-23 03:44:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
20nm以下的薄膜怎么样提高精确度?     MDC360控制仪, 国产zzs900机器     蒸发TIO2薄层时,rate=3.5A/S,一般输入20nm以下的厚度后 测得的实际厚度都在22nm以上。减少输入值变化很小!请高手指教
7 G3 C( ^7 s- l+ e6 J2 E                                     请高手具体的指教一下   在上述情况下的一般参数,蒸发速率,PID参数,系统取样时间参数!  感激不尽!!!!!!

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发表于 2009-12-23 15:00:52 | 显示全部楼层
遮蔽板開關的速度也會影響5 [! O& d9 d8 C/ S& q
  
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发表于 2009-12-23 21:38:38 | 显示全部楼层
你用离子源了吗?
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发表于 2009-12-24 13:43:35 | 显示全部楼层
不应该吧,我还做过6nm的呢,
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发表于 2010-2-11 13:15:23 | 显示全部楼层
输入厚度不要输20nm,另外埚板不同位置厚度也不一样,可以往内圈放
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发表于 2010-6-11 15:51:29 | 显示全部楼层
路过,学习了
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发表于 2010-6-15 06:13:26 | 显示全部楼层
太昂贵了8uiiiiiiiiiiiiiiiiiiiiiii
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发表于 2014-10-10 22:48:33 | 显示全部楼层
luo guo  jifen jifen
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