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1.空心阴极离子镀原理 / y! |/ A; ]" [6 ]8 u+ v) r
在本底真空为高真空的条件下,由阴极中通入氩器气(1-10-2)
6 c& S0 E9 I G5 U5 ~在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩气发生辉光放电,在空心阴极内产生低压等离子体放电,阴极温度升高到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电子发射,放电转为稳定状态。通入反应气体,可以制化合膜。 5 x0 W! U1 d8 s6 n* a6 K' q6 ?: R
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2.测控溅射工作原理 , w1 N4 s- w8 D4 a7 B! w; P9 Y
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先将真空室预抽至10-3Pa,然后通入气体(如氩气),气压为1-10 Pa时,给靶加负电压,产生辉光放电,电子在电场正作用下加速飞向基片时,与氩原子碰撞,电离出Ar和另一个电子;
$ |; l# O6 a4 ^7 n2 d轰击靶材,由二次电子电离的 越来越多,不断轰击靶材;磁场改变电子的运动方向,以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率。
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+ U" d+ b$ Y- Q& p! \3.多弧离子镀工作原理 " L5 S- u) N T" z) n2 Y. c
9 L1 I- u0 t2 v& Q其工作原理为冷阴极自持弧光放电,其物理基础为场致发射。 , M( d2 C4 _- p7 U, Y
被镀材料接阴极,真空室接阳极,真空室抽为高真空时,引发电极启动器,接触拉开,此时,阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电,阴极表面布满飞速游动的阴极斑,部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源,以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。
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Y! ?: J0 _, \- _9 x( @' m* i" l4.电阻蒸发式镀膜机 ; n9 B. R+ w. u- M! J. _, Q( p
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膜材即要镀的材料放于蒸发舟中,置于真空室中,抽到一定真空时,通过电阻加热膜材,使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时,原子和分子从蒸发源中逸出后,到达基片形成膜。为了使膜厚均匀,可以利用电机带动基片旋转,并用膜厚仪控制膜厚,制出优质膜。
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1 H# C1 j# ]$ L4 o, x" i5.E型枪工作原理 2 w4 Q0 R5 J5 I; K0 Y. L+ x' A
0 g+ y5 V- ]2 V; u; U3 E阴极灯丝加热后发射具有0.3 EV初动能的热电子,这些热电子在灯丝阴极与阳极之间的电场作用下加速并会聚成束状。在电磁线圈的磁场中,电子束沿E x B的方向偏转,通过阴极时,电子的能量提高到10KV,通过阳极电子偏转270度角而入射坩埚内的膜材表面上,轰击膜材使其蒸发。 & S' |, |7 A+ V W3 p
/ s7 x) w9 i3 A6.PCVD镀膜工作原理 3 @6 j/ ?" j( ]* S( h
2 T$ n; |: @* S) T7 f将被镀件放在低压辉光放电的阴极上,通入适当气体,在一定温度下,利用化学反应和离子轰击相结合的过程,在工件表面获得涂层。 |
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