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1.空心阴极离子镀原理 ! H- c# v$ _4 x. h* g3 v1 O4 s* x
在本底真空为高真空的条件下,由阴极中通入氩器气(1-10-2)
6 ^. E$ o4 @1 a |: q在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩气发生辉光放电,在空心阴极内产生低压等离子体放电,阴极温度升高到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电子发射,放电转为稳定状态。通入反应气体,可以制化合膜。
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2.测控溅射工作原理 ( d1 j! S* D. H; `$ t$ i; W
; C3 _' O( W+ G1 m2 ]先将真空室预抽至10-3Pa,然后通入气体(如氩气),气压为1-10 Pa时,给靶加负电压,产生辉光放电,电子在电场正作用下加速飞向基片时,与氩原子碰撞,电离出Ar和另一个电子;
* K& {6 b, c3 A) [轰击靶材,由二次电子电离的 越来越多,不断轰击靶材;磁场改变电子的运动方向,以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率。
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3.多弧离子镀工作原理 ( k- j% y' d4 n9 ^* Y5 O- J
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其工作原理为冷阴极自持弧光放电,其物理基础为场致发射。 1 K* K8 f1 R: }
被镀材料接阴极,真空室接阳极,真空室抽为高真空时,引发电极启动器,接触拉开,此时,阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电,阴极表面布满飞速游动的阴极斑,部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源,以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。 0 s! ^: x4 v. l" c! b. ~! A
6 i6 B" ], F9 [6 O2 V( c- l4.电阻蒸发式镀膜机
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膜材即要镀的材料放于蒸发舟中,置于真空室中,抽到一定真空时,通过电阻加热膜材,使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时,原子和分子从蒸发源中逸出后,到达基片形成膜。为了使膜厚均匀,可以利用电机带动基片旋转,并用膜厚仪控制膜厚,制出优质膜。
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5.E型枪工作原理
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0 X, }9 k8 k$ L! b阴极灯丝加热后发射具有0.3 EV初动能的热电子,这些热电子在灯丝阴极与阳极之间的电场作用下加速并会聚成束状。在电磁线圈的磁场中,电子束沿E x B的方向偏转,通过阴极时,电子的能量提高到10KV,通过阳极电子偏转270度角而入射坩埚内的膜材表面上,轰击膜材使其蒸发。 6 a- P( e h- w5 e: y
9 j/ m4 i3 ]0 w8 }- |# ~% v8 F1 [6.PCVD镀膜工作原理
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将被镀件放在低压辉光放电的阴极上,通入适当气体,在一定温度下,利用化学反应和离子轰击相结合的过程,在工件表面获得涂层。 |
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