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镀膜机工作原理介绍

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发表于 2009-11-29 22:48:51 | 显示全部楼层 |阅读模式
1.空心阴极离子镀原理
( W; e! n, x+ U3 G' s- M. C0 i在本底真空为高真空的条件下,由阴极中通入氩器气(1-10-2)
* [4 D. O5 H$ U. z* Z6 Y在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩气发生辉光放电,在空心阴极内产生低压等离子体放电,阴极温度升高到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电子发射,放电转为稳定状态。通入反应气体,可以制化合膜。
7 [0 Q  P4 c' ^3 J! D 7 C, P; m) C5 b2 e5 b  x
2.测控溅射工作原理
) t0 k( o5 r0 ?! y, o 7 R! i4 V  \* p
先将真空室预抽至10-3Pa,然后通入气体(如氩气),气压为1-10 Pa时,给靶加负电压,产生辉光放电,电子在电场正作用下加速飞向基片时,与氩原子碰撞,电离出Ar和另一个电子;
- ~# r+ @/ Z  O2 V! `; E( K轰击靶材,由二次电子电离的 越来越多,不断轰击靶材;磁场改变电子的运动方向,以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率。
( W9 w& }! b; p" b
7 J  X  C. M! N, H6 {/ D3.多弧离子镀工作原理
% ?- q9 P/ V1 R; A4 q , j6 m) @# k# C. ~$ E
其工作原理为冷阴极自持弧光放电,其物理基础为场致发射。 5 I& a4 B; k3 x9 C! }% g( |# F+ S
被镀材料接阴极,真空室接阳极,真空室抽为高真空时,引发电极启动器,接触拉开,此时,阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电,阴极表面布满飞速游动的阴极斑,部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源,以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。   g2 b. O3 {2 Z( z2 N4 l. @$ [% `

+ N' j! e/ K% X4 f. o( ?1 M4.电阻蒸发式镀膜机
* s4 s+ F* O6 J8 T# P2 w , k" v( s* O) |
膜材即要镀的材料放于蒸发舟中,置于真空室中,抽到一定真空时,通过电阻加热膜材,使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时,原子和分子从蒸发源中逸出后,到达基片形成膜。为了使膜厚均匀,可以利用电机带动基片旋转,并用膜厚仪控制膜厚,制出优质膜。
9 ?# i# x4 O6 G4 K& Q) W2 R
/ M0 e$ s3 h5 o6 E$ E5.E型枪工作原理
: ?, h+ s/ E6 w) s. \8 w   a) c7 ^0 [4 r, [! |
阴极灯丝加热后发射具有0.3    EV初动能的热电子,这些热电子在灯丝阴极与阳极之间的电场作用下加速并会聚成束状。在电磁线圈的磁场中,电子束沿E x B的方向偏转,通过阴极时,电子的能量提高到10KV,通过阳极电子偏转270度角而入射坩埚内的膜材表面上,轰击膜材使其蒸发。
7 h! o. v/ G* Q8 y' }8 q( o
/ t8 E6 d" B7 E) _# p9 W6.PCVD镀膜工作原理
: N1 C6 Z+ x  Z: j
5 O; [$ H0 b9 o; V5 v" t, ]将被镀件放在低压辉光放电的阴极上,通入适当气体,在一定温度下,利用化学反应和离子轰击相结合的过程,在工件表面获得涂层。

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发表于 2009-12-7 14:59:14 | 显示全部楼层
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发表于 2010-2-7 16:11:23 | 显示全部楼层
怎么没有PVD的呢?溅射的
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发表于 2010-4-27 19:13:23 | 显示全部楼层
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发表于 2010-6-17 22:12:19 | 显示全部楼层
谢谢楼主归纳。。。
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发表于 2011-4-22 11:13:08 | 显示全部楼层
不错,把那些要金币的吝啬鬼比下去
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