电子枪蒸发率曲线不稳

fanyushan

各位大侠:
    本人在做膜系时，遇到问题，我那出来，大家共同讨论
/ K. ]4 }9 |% M- D  南光1300，双电子枪，原料题Ti3O5，SiO2.本地真空3.0E-3Pa，工作真空9.0E-3Pa
7 _& m/ ^5 {) \8 ^, `! c   问题1：在熔料时，晶振的蒸发率监控曲线有小峰（换不同厂家的晶振片，电子枪清理任然如此），但有时侯就没有
$ o3 R' {. U1 A3 H! d! M5 ]         这种现象
1 x( R- ]: N$ O$ X  d 问题2：在镀膜时，蒸发率曲线有时也会上下起伏，特别是刚打开挡板时，曲线会有一小峰
8 u$ t0 _% P# t- A5 y3 n- C! b

我这里也有一些想法，先不说出来，以免误导大家

wukeyi28

问题1  膜料有分解 真空室内气体流动
问题2  挡板轴那里漏气不
: C* r+ x7 }  r; L' P仅供参考 欢迎拍砖

longmin

聽你述
貴機在融藥時晶振已啟動
且因融藥會放氣
尤其以高折射率材料更會放氣
這應該是可能造成有小峰的原因
至於在镀膜时可能有下列原因造成
( Y0 R- P- M5 `4 } 1　融藥過程中還有氣體未完全放出
. {/ A: t) {% @8 O1 e; H5 e) i" W/ y- L2　ｐｉｄ控制參數需要再重新調整
2 f) i% P4 ~) p' H3　晶振的冷卻水溫差過大
, \/ [: N) R* L$ G" z  |2 ^上述幾點為個人意見
5 ~* [! j" G  @. M( l1 J( g. l6 y請參考
: E4 J) U3 B% o
3 ?7 a* H* i6 R: R4 E   

fanyushan

楼上您好，对于熔料过程中气体未放完我比较赞同，因为我曾经观察到沉积膜料时，坩埚内有象水沸腾的现象，我估计膜料中的气体或潮气没有放干净；对于晶振冷却水温差异，我不太理解，因为如果晶振系统冷却水温的超过其承受能力，那么系统会报警并且会严重影响蒸发率曲线和膜系设计，并不应该只是随机现象。问题2，挡板处漏气，我倒是可以检漏查看

致谢楼上各位

zhi_ma

问题1：1.膜料预熔时间不够气体没有放完，2.电子枪蒸发膜料时功率不稳定3.沉积速率太快
问题2：1.ｐｉｄ控制參數需要再重新調整，2.sio2在镀时一般都会有波动有时很大和晶振关系不大  上面仅是个人意见宫，仅供参考。

gpx007

可能是电子枪灯丝有问题，你可以检查一下先！

sajia

看看

tangtang0427

有没有使用离子源辅助，离子源的状态是否稳定？设置是否有所变化，真空度呢？

√感觉这东西

sio2 压得平实 不呢 @