电子枪蒸发率曲线不稳

fanyushan

各位大侠:
& Z( K. b. y. I6 k0 m) O    本人在做膜系时，遇到问题，我那出来，大家共同讨论
3 r: Z) l: h, C' @3 y  南光1300，双电子枪，原料题Ti3O5，SiO2.本地真空3.0E-3Pa，工作真空9.0E-3Pa
6 ^, J9 s' R' ~; D2 Q* h$ h$ u   问题1：在熔料时，晶振的蒸发率监控曲线有小峰（换不同厂家的晶振片，电子枪清理任然如此），但有时侯就没有
* R" B2 N2 N3 B. _. ^         这种现象
问题2：在镀膜时，蒸发率曲线有时也会上下起伏，特别是刚打开挡板时，曲线会有一小峰
' Y" m. W" l" W: w8 T

' n2 i* L# w( G/ {8 b我这里也有一些想法，先不说出来，以免误导大家

wukeyi28

问题1  膜料有分解 真空室内气体流动
" x+ \* j' N& r: P+ b, a# `问题2  挡板轴那里漏气不
+ z0 t3 L/ I' T8 p6 i( ~仅供参考 欢迎拍砖

longmin

聽你述
& Q  y7 P1 ~0 d, Y/ L' ?- ~貴機在融藥時晶振已啟動
/ f( P" h6 s/ y且因融藥會放氣
8 a2 _4 k% {, n' u, ~尤其以高折射率材料更會放氣
0 \; w" I. k, W( \& d這應該是可能造成有小峰的原因
至於在镀膜时可能有下列原因造成
) {/ H" O) Q2 \& x+ p, @4 |9 I 1　融藥過程中還有氣體未完全放出
2 D) k& b; |, d4 u* ]$ d$ Y# c2　ｐｉｄ控制參數需要再重新調整
3　晶振的冷卻水溫差過大
! y3 a* {$ a5 b- ^8 c% O# E上述幾點為個人意見
4 `& [4 e+ a5 D& |請參考

* N* F( d9 m$ h6 \7 u   

fanyushan

楼上您好，对于熔料过程中气体未放完我比较赞同，因为我曾经观察到沉积膜料时，坩埚内有象水沸腾的现象，我估计膜料中的气体或潮气没有放干净；对于晶振冷却水温差异，我不太理解，因为如果晶振系统冷却水温的超过其承受能力，那么系统会报警并且会严重影响蒸发率曲线和膜系设计，并不应该只是随机现象。问题2，挡板处漏气，我倒是可以检漏查看

致谢楼上各位

zhi_ma

问题1：1.膜料预熔时间不够气体没有放完，2.电子枪蒸发膜料时功率不稳定3.沉积速率太快
* |4 N+ e" v; o' J/ v! B问题2：1.ｐｉｄ控制參數需要再重新調整，2.sio2在镀时一般都会有波动有时很大和晶振关系不大  上面仅是个人意见宫，仅供参考。

gpx007

可能是电子枪灯丝有问题，你可以检查一下先！

sajia

看看

tangtang0427

有没有使用离子源辅助，离子源的状态是否稳定？设置是否有所变化，真空度呢？

√感觉这东西

sio2 压得平实 不呢 @