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[求助] 求助: 关于AZO磁控溅射的工艺流程和参数

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发表于 2008-11-12 21:24:58 | 显示全部楼层 |阅读模式
求助: 关于AZO磁控溅射的工艺流程和参数( p6 Z4 |) d. k& q* U8 Q3 L* k" m
关于 AZO 磁控溅射的 生产工艺流程和参数6 \: T, l8 G7 s/ j9 b
射频 磁控溅射 制造 AZO导电玻璃, 是物理过程,不发生化学反应 不是射频反应磁控溅射
6 m9 i% N1 u( n$ `6 y; ^靶材为 陶瓷靶 气体 为氩气9 j, i# |* y, F0 J  S9 v7 R
$ d# S; `. O# t2 H7 b; R
有知情人可以发邮件:cs315315@yahoo.com.cn
3 {. V% D# `0 n; |6 Y  ^5 |qq:4915594552 K% X9 d. n3 Z9 a- Z
万分感谢

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发表于 2009-7-29 18:27:21 | 显示全部楼层
都靠这个吃饭,谁能随便告诉你
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发表于 2009-8-7 15:42:22 | 显示全部楼层
多看看文章,查查资料
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发表于 2009-9-4 15:55:29 | 显示全部楼层
根据AZO薄膜性能要求,采用正交试验,对不同工艺参数进行优化。
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