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[求助] 求助: 关于AZO磁控溅射的工艺流程和参数

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发表于 2008-11-12 21:24:58 | 显示全部楼层 |阅读模式
求助: 关于AZO磁控溅射的工艺流程和参数; L5 c8 n: S) E6 ?$ h
关于 AZO 磁控溅射的 生产工艺流程和参数& Z( y- w3 \! S6 [: `
射频 磁控溅射 制造 AZO导电玻璃, 是物理过程,不发生化学反应 不是射频反应磁控溅射- I/ P( Z: T, F6 C; W8 ~
靶材为 陶瓷靶 气体 为氩气
0 Y5 E1 z7 A# @2 y/ Y3 k" h* ~2 A5 p% _
有知情人可以发邮件:cs315315@yahoo.com.cn. M# M8 g# x: _+ P8 O9 |
qq:491559455
: U) w2 `7 Q2 U- W% N8 {6 m万分感谢

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发表于 2009-7-29 18:27:21 | 显示全部楼层
都靠这个吃饭,谁能随便告诉你
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发表于 2009-8-7 15:42:22 | 显示全部楼层
多看看文章,查查资料
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发表于 2009-9-4 15:55:29 | 显示全部楼层
根据AZO薄膜性能要求,采用正交试验,对不同工艺参数进行优化。
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