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[求助] 求助: 关于AZO磁控溅射的工艺流程和参数

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发表于 2008-11-13 05:24:58 | 显示全部楼层 |阅读模式
求助: 关于AZO磁控溅射的工艺流程和参数
0 L. b8 h" }2 y+ J0 \# I( ?- A关于 AZO 磁控溅射的 生产工艺流程和参数
2 ?5 R9 E7 H* h: s. e射频 磁控溅射 制造 AZO导电玻璃, 是物理过程,不发生化学反应 不是射频反应磁控溅射, g4 ?/ N4 \: ~
靶材为 陶瓷靶 气体 为氩气
* ~7 V% g) s  E
" @. p( N, E. e3 ^# K有知情人可以发邮件:cs315315@yahoo.com.cn
8 x- w; V9 f2 wqq:4915594555 R% s" w. \/ ~- d& k
万分感谢
发表于 2009-7-30 02:27:21 | 显示全部楼层
都靠这个吃饭,谁能随便告诉你
发表于 2009-8-7 23:42:22 | 显示全部楼层
多看看文章,查查资料
发表于 2009-9-4 23:55:29 | 显示全部楼层
根据AZO薄膜性能要求,采用正交试验,对不同工艺参数进行优化。
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