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工业化生产(大面积镀膜)的矩平面形磁控溅射靶

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发表于 2007-12-5 16:06:11 | 显示全部楼层 |阅读模式
专业设计 1 P+ N4 _- K9 ^9 T2 Y& X4 r8 L
1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。
  c- [$ W8 S2 ?% W; U2、精密的水路设计,钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。 $ W/ t. Y- K4 _/ X8 b  o* N6 z
3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。 3 C# q5 m6 o3 X' Q' Z
4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。
1 q6 z3 v; N- s& |- l技术参数:+ u" y- }: h: A; N& K
  矩形磁控靶面尺寸(mm): 长:根据用户使用要求 宽:80/100/120/150/200/300 厚度: 1~20 (导磁材料 1~6) 3、最大比功率: ≤20W/cm2 4、工作压强(Pa): 8E-1~8E-2 5 n; N+ x$ u) ?  b5 d  t
5 x, w- _; L5 n5 y! _
邮箱:r1533@126.com

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发表于 2006-1-6 05:41:53 | 显示全部楼层
侃侃   好么
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发表于 2005-12-29 13:07:58 | 显示全部楼层
顶一下,楼主!!!
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发表于 2008-3-19 20:13:18 | 显示全部楼层
似乎暂时还和我的行业扯不上关系
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