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工业化生产(大面积镀膜)的矩平面形磁控溅射靶

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发表于 2007-12-5 16:06:11 | 显示全部楼层 |阅读模式
专业设计 - Z  b/ T! b/ m  ]6 [: Q: {
1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。
* G, F8 W* R* M+ {) p/ v# G" Q. R: o2、精密的水路设计,钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。 * u/ ^' d% p' x! Z% C2 o( l$ O
3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。 " u, i% ]4 d4 A
4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。  o; @* A1 i8 ?. i: e% Z) s
技术参数:
1 R( q/ F( A- l  C  矩形磁控靶面尺寸(mm): 长:根据用户使用要求 宽:80/100/120/150/200/300 厚度: 1~20 (导磁材料 1~6) 3、最大比功率: ≤20W/cm2 4、工作压强(Pa): 8E-1~8E-2 7 @( ?) o0 ?' E3 g1 y6 N$ E6 w
) M8 _. C5 M1 ]( }9 X
邮箱:r1533@126.com

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QQ
发表于 2006-1-6 05:41:53 | 显示全部楼层
侃侃   好么
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发表于 2005-12-29 13:07:58 | 显示全部楼层
顶一下,楼主!!!
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391
发表于 2008-3-19 20:13:18 | 显示全部楼层
似乎暂时还和我的行业扯不上关系
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