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工业化生产(大面积镀膜)的矩平面形磁控溅射靶

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发表于 2007-12-6 00:06:11 | 显示全部楼层 |阅读模式
专业设计 7 c) N2 _/ C) v0 C4 P
1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。$ i' j6 \1 R/ D, k
2、精密的水路设计,钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。
3 s8 F/ y: d$ c$ p+ s" ~3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。
8 ~: D. F6 B. m* q( v9 p4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。
4 J( h# l, I: L1 j- c* O9 Q技术参数:
' b% S6 x) @) l. d) H/ E  g3 b  矩形磁控靶面尺寸(mm): 长:根据用户使用要求 宽:80/100/120/150/200/300 厚度: 1~20 (导磁材料 1~6) 3、最大比功率: ≤20W/cm2 4、工作压强(Pa): 8E-1~8E-2
+ t0 t4 Z2 E2 I, h3 a& s% J! p" w% p3 R7 L7 R
邮箱:r1533@126.com
发表于 2006-1-6 13:41:53 | 显示全部楼层
侃侃   好么
发表于 2005-12-29 21:07:58 | 显示全部楼层
顶一下,楼主!!!
发表于 2008-3-20 04:13:18 | 显示全部楼层
似乎暂时还和我的行业扯不上关系
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