工业化生产（大面积镀膜）的矩平面形磁控溅射靶

r1533

专业设计
9 U$ Y# v7 W6 g  C+ j4 G1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。
2、精密的水路设计，钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。
: @$ G/ b5 v# a2 x0 P% o( X3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。
  o) t1 e: J1 |2 P$ S8 `3 u4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。
技术参数：
) Y( I: h) M6 J  u$ U  矩形磁控靶面尺寸（mm）： 长：根据用户使用要求 宽：80/100/120/150/200/300 厚度： 1～20 （导磁材料 1～6） 3、最大比功率： ≤20W/cm2 4、工作压强（Pa）： 8E-1～8E-2
; k6 x+ D% Z1 h1 H
3 ]1 c% C9 x, Q, r( O. }, f) L  z邮箱：r1533@126.com

duanyongjun

侃侃   好么

shj1128

顶一下，楼主！！！

肥肉美女

似乎暂时还和我的行业扯不上关系