工业化生产（大面积镀膜）的矩平面形磁控溅射靶

r1533

专业设计
: x" a6 X9 z8 [, m2 B1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。
! q; Z5 T2 O2 p1 Y7 w! v" {2、精密的水路设计，钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。
- ?1 O) a& l6 i3 O- R( \) z# _  `3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。
- H4 |/ _& j" P4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。
& u+ [. U7 I9 {' y: v技术参数：
  矩形磁控靶面尺寸（mm）： 长：根据用户使用要求 宽：80/100/120/150/200/300 厚度： 1～20 （导磁材料 1～6） 3、最大比功率： ≤20W/cm2 4、工作压强（Pa）： 8E-1～8E-2

7 B) r7 x  y0 \邮箱：r1533@126.com

duanyongjun

侃侃   好么

shj1128

顶一下，楼主！！！

肥肉美女

似乎暂时还和我的行业扯不上关系