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工业化生产(大面积镀膜)的矩平面形磁控溅射靶

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发表于 2007-12-5 16:06:11 | 显示全部楼层 |阅读模式
专业设计
' q! \6 d! G( _1、靶磁路依靠计算机有限元设计,靶材利用率高。9 z" s$ |. k9 i& r( T
2、精密的水路设计,钕铁硼与冷却水隔离,靶体温升小,可长时间连续稳定工作。 2 m* U8 l, `6 h& U. U
3、靶体完整的电、磁屏蔽可兼容交流溅射和直流溅射。
. ^! d# A# A9 D0 D4 a4 y; E  L4、先进合理的结构易于安装和更换靶材。  A' |5 j; ?* e6 ]5 c* D% Z" t
技术参数:7 b1 I* W3 v$ |1 r7 g" Y0 Y
  矩形磁控靶面尺寸(mm): 长:根据用户使用要求 宽:80/100/120/150/200/300 厚度: 1~20 (导磁材料 1~6) 3、最大比功率: ≤20W/cm2 4、工作压强(Pa): 8E-1~8E-2 4 ]+ S3 z6 Q- |* B
: K* p' G; \) p, r$ r; [, i5 b
邮箱:r1533@126.com

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发表于 2006-1-6 05:41:53 | 显示全部楼层
侃侃   好么
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发表于 2005-12-29 13:07:58 | 显示全部楼层
顶一下,楼主!!!
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发表于 2008-3-19 20:13:18 | 显示全部楼层
似乎暂时还和我的行业扯不上关系
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