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) l5 K8 F" i6 B<meta http-equiv="Content-Type" content="text/html; charset=gb2312">
2 v" C1 ^- M% p7 q
7 b0 M0 _5 Y: [<meta name="GENERATOR" content="Microsoft FrontPage 4.0">
, }2 o; c( M7 s" P( V- A( o% E9 ?+ o+ K: B" n# ~& l; b) n1 v* H, Q
<meta name=" rogId" content="FrontPage.Editor.Document">5 A d/ }/ X0 L8 ]
& K0 ?* Q- E" I. X4 E* _<title>中国真空学会薄膜专业委员会培训中心招生简章</title>7 t! B3 Z8 A# V; ~ T u' b8 a
- i( U$ _4 y8 v3 J5 g& X) Z</head>8 S3 e, p M7 q
% P" X! J) f2 I$ H4 }+ ~- s
! o+ h- U g+ `; D8 n: Y9 Q) ?$ n5 F& Y/ D
<body>* ~, |- h# d$ r7 I/ W6 Q2 q# r
" ~# g9 R7 \# z+ u
1 e; f' V* r# n( `. a; f G+ a# O- @2 ^, u# o& u$ W9 N
<table border="0" width="100%">0 R8 w8 i3 E/ S5 B3 n; w) m8 I
7 Q" o0 m8 u! w7 F
<tr>
2 Q+ J4 \- S$ D
* |3 q! ~6 ]. }" Z <td width="100%">. b9 c+ _8 o B) S
$ K; s+ I1 c4 R! E- O$ M9 x5 O
<p align="center"></td>
5 O: W# N$ M2 ^4 X
& A6 b# _7 X8 Z4 b7 E: U% x; g </tr>( a. p# `- @" v& v" ^' ^8 j" c
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<tr>, y1 h1 q$ M& `" C; @# {
; m @( c7 P7 H! O; K/ X <td width="100%">
' N9 v5 O5 T* c J6 @$ \; O% C- ]
9 I0 M6 c1 {/ h# o* X% F# O <p style="line-height: 150%"><font size="2"><b> 中国真空学会薄膜专业委员会决定</b>：自2004年起，在<b>北京</b>组建常设短期培训中心（以下简称培训中心）。由<b>潘峰</b>
) I* ]# L7 V+ C. _4 i# p% U8 |9 |; Y) v. a/ L5 z- X' l" i3 Y3 [5 J4 [" |
教授出任培训中心主任，中心领导小组暂时由：<b>范毓殿</b> $ Y$ D9 C+ K% k) ]4 h" M! ]( {/ L
8 S% R: k; y9 g6 U6 P- r: z1 [. z 教授；<b>董镛</b> 教授级高工；<b>陈国平</b> 教授；<b>王怡德</b> ! v3 M) Q& t9 q3 n/ z* l7 R
/ E6 k; c# ~2 d/ E$ I0 _, ]; ` 高工；<b>何整风</b> 高工；<b>那振兴</b> 高工组成。</font></p>
- i4 u7 i$ ~- a4 @. t2 z" _9 ]0 ?& Q. O. b0 `
<p style="line-height: 150%"><font size="2"> 培训中心设置：培训班；提高班；研讨班三种类型，分期进行。培训目标有所不同。</font></p>7 W6 t2 c: `& Z9 c
) L5 \* N8 @9 Y
<p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>培训班</b>：传授基础知识；讲解实用工艺；掌握操作技能；拓宽知识层面；了解行业概况。</font></p>
/ w$ O! e2 p9 f6 p
" Q0 l! e/ S" T. n9 T; ^2 | <p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>提高班</b>：围绕专题较系统地传授专业理论基础；着重了解最新技术发展动向；亲自动手参与1-2个新技术专题的实践；提高解决实际问题的能力。</font></p>$ I' O$ H' i2 o( h" A
+ J( \/ ]+ e! u5 F <p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>研讨班</b>：针对具体专题进行系统地讨论；参观或实际参与最新技术的实践；了解、分析与评估行业进展的实际情况；（研讨班可能与外商联合举办）。</font></p>+ T! f$ W& r0 T; z
+ F/ s8 `& \' A% C5 Q2 _' E
<p style="line-height: 150%"><font size="2"><b>办班原则：（1）</b>着眼於提高参与者的理论与实践水平，开阔眼界，办成真空薄膜技术工作者之家。<b>（2）</b>教师采取邀请制，博采众长。<b>（3）</b>逐步建立行业技术支持网络和信息网络。培训班和提高班结业后由中国科协颁发有效的继续教育证明书。</font></p>* F9 U" ]. s! j+ M( ~. w7 }
- k8 @. I4 R+ }
<p style="line-height: 150%"><b><font size="2"> </font></b><font size="2">
- Q$ q f9 w6 c* `# Z
+ j+ q. T' X: h( O 每期学员20-30人，小班、面对面教学相长。理论、实践、眼界并重。可以应地区或厂家要求派讲师团上门服务（邀请方可以自行点题、点人）。教材经过积累成熟一批，印发一批。不以盈利为目的，收取维持可持续办班的最低费用。每期教学费用每人1000-2000元之间（根据实际动用的人力、物力而定），备有食、宿条件，按常规差旅费标准收费。交通费自理。上门服务按双方协议执行。培训班每期7天；提高班每期7-10天，研讨班每期3-4天。自由报名，开班前20天发出报到通知。希望您将您的要求告知我们建立联系网络，可以随时取得办班信息。</font></p>
! I/ C! L4 v# w; _$ e- [5 X% _3 A9 F, T7 V" [% T( M# M
<p style="line-height: 150%"><font size="2"> 初步拟订的办班专题见下表，您愿意参加哪个班请圈定后传回，开办前我们会直接与您联系。</font></p>8 D( I `: i* N
- s( q5 |7 q1 n( i
<p style="line-height: 150%"> </td>0 s1 y5 d0 i% n" h
7 E2 s# D- I' v/ G </tr>4 E I }( q: U3 I! j8 |# {
# b b% J. J( | <tr>
" S- y" H" A) Y k. k: [: l$ L( C8 j
<td width="100%" align="center" valign="middle">
* n2 F" y+ ~8 C( K
. a8 y, F7 H: b/ ` <table width="664">
. A6 W# L4 a0 ^3 r
' p. n" d3 E/ |. {% j <tr>
% v- f& O0 H* b
9 `5 K+ C4 j8 j' ~ <td class="Normal" vAlign="top" width="200">
7 R# N& P2 F- Y& T+ Q
/ n& Q( U+ {9 w <p><font size="2">培 训 班</font></p>
/ q4 A, T, ^( B- e r9 m) ?4 T$ F' y3 E, C* W4 } j' `5 P
</td> : o4 b5 x, J1 ~" _$ I6 p
" V( V8 K: y3 H' Z& s <td class="Normal" vAlign="top" width="247">
( o+ q, [/ L/ J1 |" n# C/ }4 N1 I
<p><font size="2"> 提 高
8 a% H: G2 b+ n' Q8 s3 g9 H* u5 s) Z0 s4 Y5 N; M& Z7 [
班</font></p> ( l5 {# h; V- N* T1 h
5 b$ P) }1 D, y5 d$ l$ m0 l* F! k/ c </td>
, c7 n1 t! h {7 U9 O4 R
; t; N: Q) M1 r/ {# c8 _ <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
' |# D% }4 i: Y: R9 a" t) {/ P
0 n# @# w; i ] N3 |/ Y: D, _ <p><font size="2"> 研 讨
" m- G, ]1 P D* u" y' `* x' g
$ A* {- |# _* |9 F5 ]1 ~- q9 U* D, c 班</font></p> % P: S* t- t2 Z# u, B q- p
) Y4 T4 T$ I1 P" r, r5 D </td>
2 E" O( B2 F% I6 g
5 z- e$ C U0 j+ k( {4 ` a. b </tr>
' Z) k9 R9 L+ Q! _4 N6 [
. f: m) ^8 K8 A <tr> # g! D, R$ {- {1 W4 j8 q0 B
* {8 w' q1 C3 v <td class="Normal" vAlign="top" width="200">
. ]! x0 r0 [; S. R* C
( L2 d2 ^4 {5 ?6 S+ {4 \$ | <p><font size="2">真空系统使用与维修班</font></p>
- M" z; h# P' N. ^ t8 ^$ a8 h, y" I0 M& _
</td> " G/ {/ r6 r8 @ L* n% r/ ?# b
2 ]( e6 w, F {' P7 |1 V <td class="Normal" vAlign="top" width="247">
4 b h- x$ [' O+ h* ?" p( A- }' p: `* j
<p><font size="2">适合研发的镀膜机型与配置</font></p>
4 k$ b9 ^) _$ S! R3 O- {6 Y: f2 T! ?: k# v) s# p
</td> 9 T% t0 a: Q* o0 n1 }0 s
3 x+ R3 a) x; S( o$ E; S
<td class="Normal" vAlign="top" width="197"> 2 }- c: C# w0 p* O
0 v* A* H4 [: w
<p><font size="2">平板显示器技术发展现状</font></p>
! v/ I2 o! m6 L3 C! T' i) Y' h3 u$ w% Y9 D* u0 e5 r: x
</td>
8 Q5 b+ u" a9 {' Q! x' e1 f6 p7 E' p* ^8 u
</tr>
5 |7 g* t+ V* _; c2 y
% f# x C0 K, w6 k0 \6 \ L <tr> ; T* u( l1 m$ H
1 L' t, c; m, ]" p- S
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> % d0 K: B' S6 T1 @1 q
* s8 V% A$ N8 o Z% x; k <p><font size="2">磁控溅射技术培训班</font></p>
. s. }& k: C3 a" ?, ?: t' A: r" N+ B1 k; d. a- ]( `& {7 L
</td> 2 V! F, |3 w% \& _: v4 L( u! b
* Z9 j: P1 F/ D x, i; r2 ` <td class="Normal" vAlign="top" width="247">
4 C' k: ~" \) H" p. C( r R6 P' a3 v
<p><font size="2">离子辅助镀膜的离子源选型</font></p> 0 n7 s3 z5 c2 v$ A5 ^% w, h: b, d
* m( m$ {: S4 H4 \1 \2 X- t& _
</td> % W: I/ i `, A: T
; x; o" S. i' O; O2 H; s9 W: b/ O <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
. t' N0 t' J; a3 O
5 u9 v) r- ~5 ?& n/ u# J: S <p><font size="2">新型电源与镀膜技术发展</font></p>
) J; j8 @% I9 [1 B: a# e i" \# a$ P! c* J2 c
</td>
! A z) q6 y! n. R0 n+ K: ?0 J s5 q t) v8 Q3 N
</tr> 5 S/ E/ x2 n q) z
+ h0 i5 K# y) l t1 G
<tr> 4 R6 F5 u$ k+ H9 v
+ E# H4 b5 k& T5 n
<td class="Normal" vAlign="top" width="200">
& j' _! [, h/ i; P& f
3 l! `8 _) l9 G6 `. Y <p><font size="2">电子束蒸发技术培训班</font></p> ! j! `4 r+ S) K; I9 j/ m$ z
+ ? w( _) G: N. s: W! y </td>
7 V2 a4 T* C7 A; C2 I
3 B) Q+ _* _% H <td class="Normal" vAlign="top" width="247">
' u: S; S. k4 V' l/ i8 n; t7 g8 W2 Z- \; w/ K$ X
<p><font size="2">新发展的溅射技术原理与实践</font></p>
% ~0 N% z! c+ U/ p; O% U1 h4 B4 N9 H" _
</td> 8 \1 g# N s P) H
' a- F+ M' k' E
<td class="Normal" vAlign="top" width="197"> ) S4 ~4 `! y) Z* V# m- E! p
. v4 c0 l% \% Y2 h" {! \ <p><font size="2">建筑玻璃的发展动向</font></p>
! @# T" {) v$ D9 G G4 A5 t; u) K; k' M# k5 L& _* ^: Z- r
</td> - @$ [) w; V, F- U$ E6 W
/ G; E; G6 M7 @ </tr> . h4 F; B0 V. L8 n; T X# n
/ F8 e+ ~: h: Q
<tr> , ?2 j+ |% D: _8 d! v
9 m. B8 k9 s* a
<td class="Normal" vAlign="top" width="200">
( g/ a4 ]8 w/ E; d7 ]* _; s& R. p' v( _' a
<p><font size="2">离子辅助镀膜技术培训班</font></p> & Z& Q4 m5 j+ T1 P2 j
1 l/ k" i4 {* K7 }! v! o </td>
) G$ U, P% t, g+ N$ v( m+ r$ x/ B; z; u2 P
<td class="Normal" vAlign="top" width="247">
% g. C) z/ h H' X/ U
8 t* K) R3 C# {3 R/ Z# T <p><font size="2">电子束离子辅助镀膜工艺与实践</font></p> ; F+ g7 |1 U; f
, l$ a1 Z y# h' Z/ v7 y( N% ]
</td>
% C6 m, m) Y8 o( a; v$ r/ l7 [" E+ H$ b2 F- T9 a
<td class="Normal" vAlign="top" width="197"> 9 r0 p2 D/ G: J" i) D# n. e
6 ?9 o+ O) u2 f$ K* J$ c <p><font size="2">太阳能转换薄膜发展动向</font></p>
: {( o' I; Y4 f2 [# ]# s3 y, T& R) i/ ?; J% {
</td>
3 f! R. @, z1 X+ s; F5 N1 a) Y, A- q4 |
</tr> % Q) B- D2 y" V* B
: y# _9 p1 W- `/ X1 I
<tr>
7 d( Z8 m6 _. C& A$ `
1 ?' ~ l5 ?) R5 s& l% l- u <td class="Normal" vAlign="top" width="200"> ) |4 W! l0 i4 L1 u/ n* O; p
# O# q! K- V0 p: {* Q, c <p><font size="2">离子束溅射技术培训班</font></p> # n1 T" F0 n0 P0 m* |
: C/ t6 o1 } y# Q& l </td> + d6 J* F$ h/ Y6 {( b
9 j) L& K, t- _) _5 B- U
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> & K h" w6 i9 Y
/ Y" \/ w6 E& ?- h3 [# t" s
<p><font size="2">离子辅助与离子束增强溅射技术</font></p> 9 L3 x- j2 B7 S( I2 v! h- }5 ?% X3 T: a
. Q9 k. t: z% N" r </td>
+ x, j4 ^( e& A
$ k' P& Y1 D6 n, K. U5 B( G* e <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
# m" R8 B( K8 Y# L, K g5 c# f; s) ]
<p><font size="2">硬质薄膜技术发展历程</font></p>
% t, U) K! ]4 [+ f* Q; [7 i: Y# g
$ P \8 X# P e1 |# l, x, q </td> & s7 |' q! N8 h8 p6 N
; T( W9 g" p: I' n, _* w+ z: l
</tr> ! n8 H% E( E+ w& `% v
9 O+ h% P4 g/ R8 e2 s
<tr>
. I6 d% H$ i8 V% w' o+ R9 r8 G) s9 |1 x/ _) A; ~& p
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> 0 e2 ]* O7 f8 ?/ T @6 U8 E
5 P- Z7 N7 Y9 s- `, r9 {- B
<p><font size="2">阴极电弧镀膜技术培训班</font></p> 9 f5 A; U7 f& M& t3 \
4 P2 \% Q" P. ^3 A3 m3 t5 L
</td> + s V1 m! Y7 {% J* N
3 v( O/ h# f" P4 R7 K2 I% i
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> / f+ C1 E! f/ p; }) J5 k! q* ^
$ A, G& t" p$ N& g$ _
<p><font size="2">切削工具的纳米涂层技术</font></p>
6 T6 i0 L# P+ e. X2 o; j
7 Z$ }) e" _+ m( B g# s </td> 2 O4 L5 ?; F: y2 {: F$ o
. P% k7 i# J2 U6 z K( r
<td class="Normal" vAlign="top" width="197">
& C! f+ c& D8 x$ u& z3 y! q8 O% I: o @
<p><font size="2">等离子体聚合技术及应用</font></p>
2 A' Z" i) N# B$ b' x( z2 X6 Q5 S$ P9 }) m% S
</td>
4 o- ^, x y9 Y& l0 a, I* s/ R2 [( t( j Z0 s
</tr>
$ p8 Z8 b) E; z2 p* H5 E- o
; Z5 N. o5 x* ? u$ P <tr> $ N% D: W+ f% a# [% B
# N/ R1 ] J7 T
<td class="Normal" vAlign="top" width="200"> - A, S. T5 n0 X
$ d' ]( a1 g1 l( y, K0 g6 k( Y% A <p><font size="2">反应离子刻蚀技术培训班</font></p> 4 W. e: Y+ F* ~. Z; g( w! O
* }$ b! `- i. X$ U+ M9 Y7 p( P2 A
</td>
! ^, J, P/ o) \6 D& T/ F' @3 r+ I+ q$ t' C, W5 W
<td class="Normal" vAlign="top" width="247">
/ e" A! v: V4 ~+ C( v$ b5 x$ X
) ~, @ V- p9 v' g* t( Q% C7 F <p><font size="2">大面积光学薄膜技术的进展</font></p>
5 o H* ?+ H4 s! Y8 D7 |
o8 Y( ~$ H2 _' a, y% M4 \ </td>
6 P* Z) Z" ]2 M9 N" w7 [/ Q8 ]# B5 J
<td class="Normal" vAlign="top" width="197">
% g1 X1 I( U' M( R, ~8 I( u7 U0 K8 h& L3 \8 M. ~# O
<p><font size="2">组合镀膜技术的探讨</font></p> : ?2 m& u! |. u+ f2 d7 ?- H
( A1 S% i8 B! b% R% V
</td>
9 o; j( r& w$ q3 l* C, u* E1 }: e0 }3 B8 [- q: l \, ^
</tr>
6 E2 J6 a. x6 T: Q; D7 e# V& w" y% v9 s
<tr> 7 t3 R! ]( O* D5 e( y9 _1 a* ^
) c, v6 m. y+ N" b <td class="Normal" vAlign="top" width="200">
" ]/ s+ _. C1 p0 v* s9 B8 \! h9 U+ c1 i: ]8 a
<p><font size="2">平板式CVD技术培训班</font></p>
6 @$ P: |5 Z, \( i, K0 D1 {- a
' l T$ j# f) z0 s- t- |) W8 m! S6 }, V </td> 0 j O: U- U1 b, i) d
* o% u+ y3 D c7 _6 n7 X9 n
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> ; Q* v0 p0 }9 s
" A5 ~$ g4 e* c
<p><font size="2">光能转换薄膜技术的进展</font></p>
' j, Y1 S, F: d& f+ r4 e p' r% B J: \1 Z
</td>
5 |: i2 A2 B8 q/ ?# \) A* X0 z
+ ?$ u; x ~+ d! \' T; O" w <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
8 h6 ?7 V* V' p" F% M# _
3 U: R0 _% T; x! X+ O2 X' y <p><font size="2">卷绕式镀膜技术的新进展</font></p> 7 k5 s( a7 A' E0 [
D5 j+ @2 p/ S% r4 o </td> ! r* l) ~2 w5 Y
7 d( J, O+ t: l6 j9 b </tr> 9 O; ]0 H U* W3 I4 {5 c
4 T, E5 U, F# T6 i" @" C; E <tr>
" j" u" f2 `7 y8 {! x$ S; E4 q
" H/ i- m: `: ], C( U4 J; G" G <td class="Normal" vAlign="top" width="200"> $ U. ~1 ], N3 m1 B4 e; ?
% X: k. x; L9 A: h; L& c2 ]% t* W <p><font size="2">卷绕式真空镀膜技术培训</font></p>
+ t( [+ V. _& {: w+ R5 j7 a
8 E }3 Z3 v3 S2 q E </td>
+ |4 i u% b; _- c2 R$ Q+ _" v6 w% |; {8 ~, N4 X4 n
<td class="Normal" vAlign="top" width="247"> |4 o- k/ o- I
8 _' g( H; A* ~, w% t. `+ Y2 p& I$ ]
<p><font size="2">脉冲与磁偏转弧镀技术</font></p> ( J1 l+ \) F) I" w6 c7 Y/ f3 r
) J: v$ \2 v: h# S7 R. C- q- A </td>
7 f# ^5 q7 D0 I5 v# L& p; M
0 X( [3 ^5 L! |8 D, t0 X <td class="Normal" vAlign="top" width="197">
! V$ k/ W% a# Z$ C7 Q! ?: L
5 S6 e' e' g' C E <p><font size="2">我国镀膜行业发展与前景</font></p>
. O$ X3 d4 |( ]0 W' O5 K% K! o6 D2 O( r2 ^! s
</td>
* I% M& F7 v0 m& ?7 @ I( d V4 }1 j5 x2 n' H" `( X
</tr> * W1 z) J% _- J: [1 X; g; c
, B9 _( a/ b( ^- w2 z/ i1 b' Y# T </table>
* `3 E D) o5 j7 t# x. {4 u' Z" ^- }& H4 J3 X' y
<p class="MsoBodyTextIndent" style="line-height: 150%" align="left"><font size="2">
1 R# H. i$ a3 b. z! J5 u! ]
7 @! ^2 ^6 V6 \9 x6 x4 q1 G) o 以上只是初步计划，还有更多，欢迎您点题，一旦开题办班，我们会及时通知您，请与我们建立联系。我们初步确定：2004年2月24日（全国真空展期间），开办第一期<b>提高班</b>，内容是：新溅射技术的原理与实践。分为：溅射技术基础；溅射技术的进展；交流磁控溅射、离子束辅助溅射、脉冲偏压溅射的原理与实践；新溅射技术开发前景4个单元。7-10天，收费每人1500元（交通费，食宿费自理）。欢迎您报名，满额30人，超过人员安排在下一期，时间另行通知。</font></p>
& r, s. C6 E0 U; g6 S$ B. G0 m- B$ G" n
<p style="line-height: 150%" align="left"><font size="2">与我们联系的方式有三种：<br>
7 s) _+ z0 ~& t. n4 Y) N9 I- N& |* o! W- E9 J' O4 s2 a- o
北京2515信箱（100043） 中国真空学会
& _# v K" v- V3 Y$ T6 c& Y3 M- n3 T8 P" e1 b
谭 宁 收转，传真：010-68878447；<br>
) H4 z3 m" V5 i* ?0 C
; R2 b- F. N: n5 Y2 x/ C, h 北京市丰台区大红门五里店路六合庄1号（100076）北京东方盖德真空技术有限公司 # N. N7 o0 v% b$ s
" C3 H2 f; N$ o' \0 E; K9 a 那振兴 收，传真：010-67243295；<br> ) G( v. U6 o: g4 c; R
1 d) E! |: v$ z6 @6 U+ s0 E( [/ q: z
北京市东直门外胡家园小区19楼1007号（100027）
" Q- x2 [8 ~! v% X0 N2 h6 P1 ], u9 \
王怡德 收，传真：010-64640798。<br>
: u$ }( ?1 ^$ d+ V# g& m* V, ?- u& P
D* |+ q) y* J8 k; A1 X, Q 报名日期以信件或传真为准。</font></p> 3 u6 r; }: B( _9 x" O, c+ j6 }
8 G5 M9 D8 @0 A
<p align="left" style="line-height: 150%"> </td> + ^/ I0 C! `- k8 k: O! I( x
5 ~. _' [5 u+ K( h" X </tr>
* v( Q4 K: O, _5 V7 U* m" l/ w+ `% m/ B# |
</table> $ u# ]: \8 `; O: P) q8 }
& p7 p* h1 m& V3 K
0 b/ ~# K7 d% q6 }$ r" g2 ^6 B I8 u$ P+ t( t7 }
</body>
, s6 |; ~, o' y2 ]' h1 E& W3 @9 [
' x; z* l5 O0 y& d; b. Q0 A % _- i% U( g% i9 X8 h
2 u" q5 x t0 g K1 y
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发表于 2006-8-24 01:54:30
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