中频双靶反映磁控溅射植被TIO2膜的一些探索

xx_912 · 发表于 2006-8-24 01:22:19

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<title>一条同步辐射光刻光束线已在合肥国家同步辐射实验室建成</title>

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   摘要：具有高新折射率的TiO<sup>2</sup>膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用。本文使用国内首家在线中频双靶反映磁控溅射设备进行了制备TiO<sub>2</sub>膜的探索，完成了相应的膜层测试与分析。实验结果表明靶磁控反应溅射可以制备高折射率的TiO<sub>2</sub>膜，实验还从折射率的角度证明中频双靶反应溅射与直流反应溅射的效果一致，为进一步提高膜层沉积速率以适应工业生产需求需要引入更有有效的溅射过程控制手段。</font></td>

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