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可分析OLED薄膜结构

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发表于 2006-8-24 01:16:34 | 显示全部楼层 |阅读模式
日本ULVAC-PHI公司于2004年11月12日宣布,与离子枪生产商英国Ionoptika公司联合开发出了以C60为离子源的溅镀机离子枪,并已经开始销售(发布资料(日文))。其特点是能够在不破坏成份和结构的情况下以1nm(深度方向)的误差,对有机薄膜样本的表面进行切削或溅射清除。该公司表示“可对有机薄膜进行低损伤蚀刻,这在此前是做不到的”。通过与使用X射线对物质表面成份和分子结构进行分析的X射线光电子能谱仪(XPS)配合使用,能够高精度地对OLED使用的有机半导体层的各层分子结构以及界面结构进行分析。/ F' G2 j& l# u( N' D7 l5 u
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双方此次开发的是一种通过高速喷射C60离子撞击样本,能够在1nm到最大数百nm的厚度范围内对样本表面进行溅射清除的离子枪(图1)。主要用于使用XPS时的干蚀刻处理。此前该处理一直使用采用Ar等离子的离子枪。但是,由于离子尺寸、质量及化学反应特性等问题,当要以数nm以上的深度对样本进行切削时,经常就会由于大量离子深陷样本之中,破坏样本的化学结构,导致无法得到正确的分析结果。“比如,在对CF2组成的聚四氟乙烯使用老式离子枪时,CF2受到破坏后就会分解成CF和F”(ULVAC-PHI公司分析室课长真田 则明)。( {, \# M9 X: C( e( Z+ n
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' x; a/ P4 g- ]$ `3 m1 I; T 业界很早就知道,如果采用C60离子,样本的损伤就会非常小,能够按照所需的深度准确地对样本进行溅射清除(图2)。“尽管原因不是很明确,不过可能与C60直径较大有关系,其直径达到了0.7nm,而Ar原子的直径仅为0.2nm左右”(真田)。“开发成功可大量产生C60离子并能稳定地溅射到样本上的技术,才成功实现了此次投产”(ULVAC-PHI公司)。+ O' S. _6 b, l- D" [. z

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 C60在常温常压下很难形成离子。该公司首先将其加热到400℃使之发生升华,然后照射微弱的电子束,即可产生1~2价的C60离子。让C60离子通过质量过滤器,提高离子纯度后,先利用1kV~10kV的电压进行加速,再喷射到样本上。“C60的价格为每百mg数百万日元。只要有100mg,哪怕在平时的分析工作中每天使用,也能用上1年以上,因此材料成本不需担心”(真田)。) p# V( M4 W$ U% y( Q1 f  [2 Q$ u  F
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: c" c) ?! o- ^1 d. n0 y ULVAC-PHI公司将这种C60离子枪与该公司的XPS配套销售。C60离子枪根据离子束的最大宽度等指标分为多种类型,与XPS组成的套件价格也各不相同。XPS的价格约为1亿4000万日元(约合人民币1070万元)。而C60离子枪的单份则为每部1500万日元(约合人民币115万元)。 # ]- s- B1 h" y* z( K3 b/ f* ^
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