线形微波等离子体CVD 金刚石薄膜沉积技术

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<>　金刚石薄膜拥有优异的力学、热学、光学和电学性质,是一种新型的多功能材料。到目前为止,针对制备金刚石薄膜的特殊需求,国内外已发展出了多种沉积方法,如热丝CVD、微波等离子体CVD、热阴极直流放电CVD、直流电弧喷射CVD 以及火焰燃烧CVD 技术等。在众多的金刚石薄膜沉积方法中,微波等离子体CVD 技术具有设备稳定性好、所制备的金刚石薄膜质量高等显著特点,因而得到了广泛的应用。但是,一般用于金刚石薄膜沉积的微波等离子体CVD 技术有一个显著的缺点,即它可制备的金刚石薄膜的沉积面积相对较小。这是因为,微<BR>波的传输有赖于微波与金属波导和其他导体表面的相互作用,而一般微波设备所使用的微波频率为145 GHz ,其波长约为12 cm ,这使得微波等离子体CVD 设备能够均匀产生的微波等离子体的体积受到了一定的限制&#46;</P>
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; y9 d- X" ?/ J3 r4 N3 I) _<>线形微波等离子体CVD 设备是利用微波与等离子体之间的相互作用、产生并维持等离子体的一种装置。线形微波等离子体CVD 技术具有沉积面积容易扩大的显著优点,是一种有着极好发展前景的薄膜沉积方法。angmuir 探针的测量表明,微波等离子体的功率密度和激发方式对H<SUB>2 </SUB>等离子体的电子温度和等离子体密度有着重要的影响。利用线形微波等离子体CVD 方法可在尺寸很小的硬质合金微型钻头上沉积金刚石薄膜。由于线形微波等离子体CVD 方法具有其沉积面积容易扩大的特点,因而具有很好的发展前途。</P></td>

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