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薄膜的应力控制技术研究现状

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发表于 2025-7-22 10:34:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
  摘 要:薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景.所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段.本文对此详细阐述了几种常用的薄膜应力控制方法,并对以后研究工作的开展提出几点要求.
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  关键词:薄膜;应力;控制技术 ' T$ ?$ x( ], M2 L$ d- a3 U

! V5 s) }0 L* R' G# ]2 o1 l" c: Y   分类号:O484.2 文献标识码:A 5 D7 |6 K" ~5 ?
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  文章编号:1672-7126(2008)增刊-017-05
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Stress Release and Control of Thin Films materials Used in Devices Fabrication 3 ]9 \- n0 \7 K1 J% D  N
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Jiang Zhao  Chen Xuekang
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. J- X- W" E8 a- K& P) k+ q3 w0 D   蒋钊,联系人:Tel:13893225634;E-mail:qqq-128@163.com
3 w, a: [1 s7 c: {0 K# M' D' T6 d: O# Z  |5 L* E
  作者单位:蒋钊(兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000) 8 t: _; w# f4 [

- u5 U3 A0 l4 p$ ~2 q2 o   陈学康(兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,兰州,730000) - R& U  a. U  A+ y; l
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