离子束流和基底温度对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响

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　　摘　要：本文利用高真空离子束辅助沉积系统（IBAD）,在室温下制备了ZrN、TiAlN和一系列ZxN/TiAlN纳米多层膜,利用XRD、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪,分析了束流和基底温度对薄膜的微结构和机械性能的影响.结果表明:大部分多层膜的纳米硬度与弹性模量值都高于两种个体材料硬度的平均值,当辅助束流为5 mA时,多层膜硬度达到30.6 GPa.基底温度的升高,会显著降低薄膜的残余应力,但对薄膜的硬度,摩擦系数没有明显影响.
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　　关键词：离子束辅助沉积;ZrN/TiAlN纳米多层膜;硬度;离子束流;基底温度
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　　分类号：O484　文献标识码：A
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% {8 _% A) Z) y9 m: m' K 　　文章编号：1672-7126（2008）增刊-029-04

Deposition Conditions and Mechanical Properties of ZrN/TiAlN Nanoscaled Multilayered Coatings
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Cao Meng　 Li Qiang　 Yang Ying　 Deng Xiangyun　 Li Dejun