脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究

bomoaa

　　摘　要：类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DIE薄膜.采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析.

3 f! }8 ?' l" k" Y+ k; o# ]8 ^ 　　关键词：脉冲放电;等离子体辅助化学气相沉积法;类金刚石碳膜;Raman光谱;表面形貌
; k5 K/ Z( q/ ?# O! d2 U1 a9 n! U/ M
7 f" Z, {" }# o; q7 \+ h1 L- q 　　分类号：O484.1　文献标识码：A

# w3 A8 m6 N! c  z9 @6 Y 　　文章编号：1672-7126（2008）增刊-033-05

! d& w8 X! H5 \; u  u/ c Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

6 G% h& b# `3 O- r% k- ~( H8 p6 d' U+ j: w Gou Wei　 Li Jianfeng　 Chu Xinpu　 Zhang Liping　 Li Guoqing