光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod

Heidi

如图一
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2 A" n7 b! c' k! FEssential Macleod 是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包，可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行，并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求，从简单的单层膜到严格的分光膜；也能对波分复用（WDM）和密集波分复用（DWDM）滤波片进行测评；可以从头开始设计也可以优化已有的设计；可以勘测在设计中的误差，也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。
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Essential Macleod核心模块的功能
( G2 x" `( K6 t+ [8 L6 a4 p
•计算给定膜系的特性
$ b/ s$ {% l( f  B4 h6 H
% g5 @3 k: u% x6 r; `* l3 K•对给定特性目标要求优化膜系设计

•维护材料的光学常数
6 X( i. k0 l, s$ Y9 u. d( E
; }' G' m7 `) C6 l" m) s•对已有设计进行分析
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2 E( b2 a& G& S•膜系设计的合并分析

. y( l  @5 H( Z$ N2 k0 ~# vEssential Macleod可扩展的功能

, n. y) ^4 ]3 F6 c, W6 i0 v  Y% i) mRunsheet
* P1 N. m1 H- I( ?9 B
这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置，材料源以及制具因子（Tooling）以及监控系统。使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。

; C8 U! V( D9 M3 n' o# P  p, |( jSimulator

% I9 f7 G9 m) t/ f对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。

  Q9 z6 N) i2 P; M9 ?. J; k2 H0 Q, n1 ^Monitorlink
. o# C7 z6 |. r; e: f' i; c, m! S
Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。
7 A5 J6 S  @7 w7 G7 U; oVStack

VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为 p- 偏振态的光线最终会以 p - 偏振态从系统出射。同理，原本是 s - 偏振态光也会以 p - 偏振态出射，我们称此为 偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。 VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
- N2 \! k; A1 Y
Function

一些法向反射﹑透射，或是相位的计算通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。电子数据表并不是一种合适的解法，一方面因为它不方便进行插值操作，另一方面在处理不同数量的数据组字时会有困难。但 Function 可以完全自动计算，其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。
- Y! g3 k; Q( S' j! T
' h0 b  g- D. I& i" vDWDM Assistant

DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间等等规范排序。