|
|
+ ]' {, f# } }3 f: e浸没式光刻投影物镜光学薄膜
5 D+ P4 b) @- w' E0 Q0 T3 A6 B3 c: u2 n" b
毕丹丹张立超时光8 z0 k d0 c ?0 N: w
! K) R8 Z0 T) t" A) |& ^, _
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心中国科学院大学长春国科精密光学技术有限公司" i+ E0 F/ v( i9 e+ I0 L. y
* @& D% a) l" D, ^+ G% p) w
导出/参考文献 分享) j% K! V2 @0 b2 U' S
5 [; V: ~; @1 d4 b. \7 S
& K! n6 o) a& a) ]
! |8 E7 K% o' s K2 H) B3 \1 W1 K
. F6 u4 O: a1 l$ T4 F8 K创建引文跟踪收藏打印 : A6 J5 _0 M' O0 ]5 r% n
) l- C% H' X9 L/ V
) K4 h h2 E$ W# C- P
0 N# l0 c& Q1 z4 }( r0 W t摘要：深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法,为实现更小的元件特征尺寸,必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率,由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求。本文介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计,以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系;对物镜中最关键的浸液薄膜的液体环境适应性、疏水及防污染等关键问题进行了讨论;对衡量浸没式光刻系统性能的重要因素镀膜元件激光辐照寿命,尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析。 ) f% ?/ S9 r6 w9 R8 o& g
|
本帖子中包含更多资源
您需要 登录 才可以下载或查看，没有帐号？注册
x
|
窥视卡
雷达卡
发表于 2019-6-5 23:00:49
提升卡
置顶卡
沉默卡
喧嚣卡
变色卡
抢沙发
显身卡
