一氧化硅-性能介绍

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一氧化硅-性能介绍
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4 k% E0 i, X- ]一氧化硅分子量44.09，密度2.1，熔点1702℃，在10-2Pa真空下的蒸发温度为850℃。可用钨、钼、钽舟加热蒸发，用电子束加热蒸发效果很好。
一氧化硅薄膜的透明区为0.5~8μm，8μm以上吸收增加。一氧化硅薄膜的折射率与蒸镀参数密切相关，在高真空中快速蒸发其折射率较高，低真空中慢速蒸发其折射率较小。
8 C- U& U' l" E7 @2 D' e( G) n一氧化硅薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一，在光学薄膜中具有广泛的应用，它不但可以用于铝前面反射镜的保护膜，多层减反射膜，还可以用于红外光学元件的减反射膜。
另外一氧化硅薄膜对氧气、水汽、气味等具有良好的阻气性，淀积在塑料膜上形成阻气膜，用于食品、药品、精密电子部件等的包装上。
! j$ ~  Q9 I. f& M  ~爱特斯光学一氧化硅块料月产量能达到5-6吨，并且在逐步上升中；生产技术处于行业领先。稳定的品质，齐全的规格，充足的供货量，给客户提供多样化的选择，及时的供货。