设为首页收藏本站
开启辅助访问 切换到宽版
定制高端激光薄膜

光学薄膜论坛

 找回密码
 注册
搜索
光学薄膜论坛» › 薄膜资料 › 薄膜资料 › 光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展
本站邀请注册说明！
返回列表 发新帖
查看: 700|回复: 2

[转贴] 光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展

[复制链接]
发表于 2015-11-30 20:12:21 | 显示全部楼层 |阅读模式

* G- V( b3 o, c2 J) x1 s1 p  ~$ Z6 @' I1 k0 n$ E$ D
光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展_闫宏
2 b+ Y) @( k, d( i
游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复
7 F) P, f" @/ M; c2 I7 F
回复

使用道具 举报

发表于 2015-12-11 11:18:34 | 显示全部楼层
看看 谢楼主分享
回复 支持 反对

使用道具 举报

kongdx
发表于 2018-4-18 13:14:40 | 显示全部楼层
学习知识，天天向上
回复 支持 反对

使用道具 举报

返回列表 发新帖
高级模式
B Color Image Link Quote Code Smilies
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

本站邀请注册说明！

小黑屋|手机版|Archiver|光学薄膜信息网  

GMT+8, 2024-5-17 17:16 , Processed in 0.041876 second(s), 18 queries .

Powered by Discuz! X3.4 Licensed

Copyright © 2001-2021, Tencent Cloud.

快速回复 返回顶部 返回列表