Tio2的折射率做不上去采取什么措施?

bakgy · 发表于 2007-3-24 08:58:18

提高烘烤温度，加快蒸发速率，加强离子轰击，尽量少冲氧气

hanghairizhi · 发表于 2007-3-30 00:04:27

顶,赞同

ccc502 · 发表于 2007-11-10 01:54:44

wei he T ti gao jiu neng shang qu ,bu dong

zhougb · 发表于 2007-11-13 23:36:46

to ccc502
因为提高了温度，就提高了蒸发原子/分子到达基底时的迁移率，从而提高了薄膜的聚集密度。膜层中的空隙少了，折射率也就提高了

guan01cn · 发表于 2007-11-17 03:10:39

使用TiAl靶材

阳光 · 发表于 2008-2-4 12:48:06

温度一定要合适一般250度左右，还有速率控制在0.35-0.45nm/s，冲氧的压力也很关键，如果有条件就把氧电离了再冲进去

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