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晶控仪 XDM-3K

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发表于 2013-11-17 13:12:51 | 显示全部楼层 |阅读模式
大家好,
* i+ Y) F2 x3 h; b2 j4 B& \) j+ K上海膜林科技有限公司的新一代晶控仪 XDM-3K,全中文触摸屏,操作简单,含有多项专利技术,国产镀膜机轻松实现自动化。表现优异,详情请见公司网站:morningtech.cn
2 D- G* Z( j3 b* l欢迎 各位不吝赐教,帮助我们进步,也帮助大家共同进步。& C* K) g$ C; y* _0 B

# u7 T+ X$ P/ Y9 L9 R  _
9 g' z8 k5 E5 J+ N7 P

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 楼主| 发表于 2013-11-19 00:31:29 | 显示全部楼层
公司网站 morningtech.cn 内有问答形式的晶控介绍,欢迎批评指正./ `9 l, H$ V. N# C

3 q+ ?/ \; x  P) x问:影响速率稳定性的因素有哪些?
" K) E' P5 y2 Y* W要从速率的形成、检测、控制这几个方面来看这个问题。
- \) L+ \) I# ~5 m: C/ ?从蒸发源来看,电子枪灯丝、焦斑、扫描、材料状态(包括放气、高低、挖坑、多少、熔融等)、电极的连接情况、坩埚的冷却、离子源辅助情况等都有影响。这些因素不仅影响速率稳定性,而且会影响蒸发功率的大小。# j3 `8 W$ ?; ]$ B# {6 Y, f
速率检测方面,晶振片的状态(在XDM中可参考阻力损耗值)、电极连接状态、晶振片附件是否有漏气、真空度是否稳定、探头冷却水是否通畅等。
0 Q/ \5 ^' S# Z控制方面,要看材料的PID参数的合适程度。. r2 I4 Q9 l& h  G3 w7 V) o- M6 Y
可见,即使同一台机器,不同工艺及状态,要达到同样的速率控制,PID参数也可能不一样。幸运的是,PID参数的容差较大,即一般情况下,PID参数无需做很多调整,也能较好的对应多个状态。
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 楼主| 发表于 2013-11-19 00:33:04 | 显示全部楼层
问:如何调整PID参数?
' S7 s% k. D  [- T# ]' {) \在上述影响速率稳定性因素中,其他参数相对稳定的情况下,PID参数是否设置合理,才最终决定能否实现快速稳定可重复的速率控制。" y& o" V# C/ i' B% C4 U
(图形 a,b,c,d请参见 网站 morningtech.cn )
6 A6 i& d$ g. \* y! h- i+ |( c+ O& p(a)速率过冲大,减小 P。若仍过冲,减小I,增强积分作用。
5 D7 n5 \2 U0 i7 [# a% f* W(b)偏差明显,减小 I,增强积分作用。2 P+ q4 D+ T5 O/ o/ M5 V9 G% _- I
(c)起动时间长,增大 P,减小I,增强积分作用。5 @& p7 C6 `+ l. z/ T8 U3 _
(d) 振荡,增大I,减弱积分作用。若仍振荡,增大P。
) @: L6 n- K1 Y( p7 o" d上述是一般规律。鉴于晶控初始阶段的特殊性,起始速率过冲及起动时间长,预熔功率、挡板延迟、最大功率延迟、电子枪灯丝及坩埚等关系也比较大。
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 楼主| 发表于 2013-11-21 00:31:41 | 显示全部楼层
上个某用户用XDM-3K的成膜曲线图,速率与厚度全部由XDM-3K全自动控制,一个晶振片做到底。

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 楼主| 发表于 2013-12-8 12:35:49 | 显示全部楼层
可用晶振片     6MHz      * b% U# |* w  n1 T0 p
频率范围     5MHz~6MHz,
- k1 r  F/ e) O频率分辨率     0.005Hz      
2 x% t$ h* F: I: f9 ^频率稳定度     1ppm      
2 f, O6 L0 w9 ?5 O$ O7 S$ X( S膜厚分辨率     0.002A     
% z# ]2 T2 w2 O$ f% k测量更新率     10Hz & T+ D( `- i3 s! [/ V
材料数     112 8 f1 Z  N& v' f8 ~2 v" B# }
膜系数     20, 可自动串接
: Z5 Y( C7 o0 ~+ Z! j可设定层数     112层/每膜系
+ z8 t" w, f- h0 }1 v/ u1 ^/ f可控制蒸发源数     3个, 0~10V, 16bit
: T& A( L! f" i0 l9 v数字输入     8路兼容LVTTL,功能自定义
$ w" g" O4 [+ \+ s5 V# F1 O  ~数字输出     10路常开继电器,功能自定义 6 [$ B9 z. k& L# w. F+ \* e5 m
探头数     1,支持六探头      ' H, a( \% c* g, e+ J
电源     90V~240V,AC, 20W & v( N- c) e+ B2 L! m+ I) |2 }% \
主机尺寸 XDM-3K     438*88*300 (mm,标准工业机柜宽, 2U高度, 深300mm)
/ z0 y& W7 w' g' O& g控制方法     PID     0 m9 I4 i8 S1 C5 Z
语言     多国语言(中、英、…)         
3 Q8 O  m! B* e+ ^0 [/ H通信接口     RS232   
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发表于 2014-2-13 00:27:13 | 显示全部楼层
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 楼主| 发表于 2014-7-19 06:16:45 | 显示全部楼层
我们公司将参加2014年9月2日-5日的深圳光博会,展位7H19,欢迎您到现场指导我们将膜厚过程控制(晶控)做得更好;8 K2 c5 c2 ?0 P3 y( K2 F) ^
我们也将参与2014年10月20-24日 在同济大学召开的第三届光学薄膜前沿国际会议
! Y+ {- {' j) W3 {, C6 V; M
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 楼主| 发表于 2014-10-21 03:07:03 | 显示全部楼层
. `! J3 V1 c- f* x5 A, n6 Q7 m" N
2014.10.20~24 第三届光学薄膜前沿国际会议(foc 2014) 同济大学中法中心
* `# |" r6 A9 ?! g; T) V; xOct. 20th, 2014 ---- Oct. 24th, 2014 Sino-French Center, Tongji University1 x9 @  Y) Q0 n) w  m
会议日程表 请去会议网站 或 我司网站下载 morningtech.cn
" n9 Q! p* N2 _+ x7 X! I* n0 p6 d. I2 h9 c* H, }
2014.10.22 17:10~18:10, 张贴报告 PII-4,与您相约.  Shanghai MorningTech
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 楼主| 发表于 2014-12-9 02:47:59 | 显示全部楼层
上个晶控仪的图片$ \0 @' K& G8 H/ \/ F- r
可以去本公司网站浏览更多关于此晶控的信息 www.morningtech.cn

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 楼主| 发表于 2015-1-2 01:51:03 | 显示全部楼层
上海膜林系列晶控仪精度高,稳定性好。
8 \; H# o. Q& F# q% J功能强大,操作简单。5 {8 p( X, x. o. d: [
上海膜林科技有限公司竭力提供最优秀的光学镀膜膜厚过程控制,让镀膜简单起来。
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