离子束溅射参数与Ta205薄膜特性的关联性

gds · 发表于 2013-9-30 11:16:11

题名：离子束溅射参数与Ta205薄膜特性的关联性 作者：刘华松傅翾王利栓姜玉刚冷健庄克文季一勤 出处：《红外与激光工程》 EI CSCD 2013年第7期基金：国家自然科学基金(61235011）;天津市科委项目(10JCYBJC01500,12JCQNIC01200）摘要：离子束溅射技术是制备Ta205薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法，系统研究了Ta2Os薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数（基板温度、离子束压、离子...9

longmin · 发表于 2013-9-30 23:34:06

謝謝樓主資料

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:12:40

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:12:46

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:12:50

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:12:55

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:12:59

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:13:06

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:13:31

zhubinyz · 发表于 2013-10-3 15:13:47

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