|
|
离子源辅助磁控溅射沉积SiO_x阻隔薄膜的研究
2 J" T9 t' x0 X1 [2 z- ^
, B7 [3 u4 B/ j: [0 [0 r, o9 g# n离子源辅助磁控溅射沉积SiO_x阻隔薄膜的研究 M4 Y: S) {$ N6 f9 e/ x
! t" B+ ^1 B4 y
Study on SiO_x Coating Deposition by Magnetron Sputtering with Ion Beam Assisted; O% O/ ] h9 J% H2 a$ v0 V. Y% K
& I. _* R# D8 D9 C
分页下载
0 F$ Z4 P6 w0 n' V& w/ Q7 r分章下载
; U1 a# o7 q7 ?: h0 i* @% {. ] q整本下载
, p+ O' C1 H) a) i/ ~在线阅读 # A! g+ H, g0 d
% ^/ M8 S! {( W+ o5 k) H不支持迅雷等下载工具。 Y9 P5 Q1 C) m) |: M4 V! X: V% [6 E
7 ^% N6 {* ]% \' h2 W
免费订阅 8 M% s+ ?1 r6 t) [1 j0 A
/ n- M; p# t; x' p5 _. p' m
( `3 M5 k; J; O2 d- [# q3 Z4 j# ]( w. c E* f3 R& f& R
【作者】 韩尔立； ( `5 n3 j$ f* q2 \2 i u: ^
9 O* Z' Y" y; V( h
【导师】 陈强； 葛袁静； - L# A% u% g6 E% a$ R, {4 Z8 Q2 s
; ~1 {# k% I6 U& b
【作者基本信息】 北京印刷学院， 材料物理与化学， 2006， 硕士
: Z" R' N/ C. N! w( d. E+ j, W+ B. t
【摘要】 食品保质保鲜要求包装材料具有优良的阻隔性能,即阻止水蒸气和气体渗透的性能。镀 SiOx 阻隔材料具有足以与镀铝材料相媲美的阻隔性能,同时又具有可见光透过和微波直接加热的特性,因而成为包装材料发展的一个热点方向。对PET、BOPP、PE 三种常用包装薄膜基材进行实验比较,选择 PET 作为 SiOx 阻隔膜沉积基材。采用电子束蒸镀和磁控溅射两种沉积工艺在不同工艺参数下制备SiOx 阻隔薄膜。所沉积薄膜用表面轮廓仪进行膜厚测试,并进行了薄膜均匀性测试。利用 FTIR,SEM,XPS ,XRD 分别对沉积膜的结构,表面形貌,元素组成等进行了表征。并考察了离子源辅助对磁控溅射沉积薄膜的影响。研究结果如下:1. 薄膜均匀性测试显示,磁控溅射均匀性较好,在片内均匀性、片间均匀性和炉间均匀性上均优于电子束蒸镀法。2.薄膜表面形貌分析显示,电子束蒸镀沉积的 SiOx颗粒粗大,表面缺陷较多,而磁控溅射沉积 SiOx薄膜均匀致密,但仍有微裂纹,经离子源辅助后裂纹大大减少,甚至消失。3.XRD 测试未显示衍射峰,表明所沉积薄膜为非晶态,可能的薄膜生长方式为岛状生长,形成不连续的无定性非晶态结构。4.用电子束... 更多
: _5 p4 b% n" Y, d8 X1 y3 T/ w$ d! b8 c0 y1 y4 s2 f1 i
2 {; X( i6 Z, Q- e$ C【关键词】 SiO2阻隔薄膜； 电子束蒸镀； 磁控溅射； 离子源辅助；- b1 [, h* F4 r/ F- [
下载地址： |
|
窥视卡
雷达卡
发表于 2013-5-4 06:58:10
提升卡
置顶卡
沉默卡
喧嚣卡
变色卡
抢沙发
显身卡
发表于 2013-5-9 05:04:51