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半导体UVLED曝光方法,适于利用一台UVLED曝光机对晶片进行曝光。这种半导体UVLED曝光机至少是由用来承载晶片的曝光镜头以及液体循环装置构成,其中液体循环装置在曝光期间为曝光镜头与晶片之间供应液体。其特征在于,半导体UVLED曝光前,利用至少一对准光源对承载台进行一对准操作,其中对准光源具有一特定波长,使液体挥发时对对准光源的影响降至最低,以防止液体影响前述对准操作。3 s1 f1 _( M$ r% |4 a) \
. s1 j; d$ ?4 a9 O半导体UVLED曝光机的原理以及特点:$ L. a7 G5 \8 ]$ C, ~( a, K
1、省电节能,减低成本,半导体UVLED曝光机的LED发光达到某种亮度时所消耗的能量只有15瓦左右,而传统的灯达到同样亮度要消耗1500瓦的能量,即使与UV卤素灯相比,也可节省80%的能源。# i$ _0 G# W6 R
2、LED灯的发光不是红外线加热,发放的热力较低,因而不会影响那些容易受热而变形的介质(像泡沫塑料板、箔膜、PVC等)在印刷过程中的传送。这样,介质的应用范围就更加广泛了。 : a( u3 E$ p$ _ P7 u" B
3、反应时间快,LED灯不需要预热,可以开机后立即印刷,生产力得以提高。 & v) l# E' r( t7 }, H& Y+ r* v
4、安全性高,稳定性高,UV喷墨印刷机的印刷质量跟UV干燥固化的过程有莫大关系,LED灯的稳定性使得输出的能量是可预见的、稳定的,因此印刷效果同样是可预见的、稳定的。
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