国际光学薄膜技术及应用高端讲座

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在现代光学技术领域，光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展，对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。为了推动我国高性能光学薄膜技术的发展，建立国内光学薄膜技术交流平台，中国宇航学会光电技术专业委员会联合有关单位于2012年10月11-13日在苏州市举办“国际光
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/ e0 h: A8 l3 D2 C( |4 X5 m学薄膜技术及应用高端讲座”。

    此次会议旨进一步推动我国光学薄膜技术领域最新成果的展示和交流。中国宇航学会光电技术专业委员会特别邀请德国夫琅禾费研究所副所长、薄膜光学领域的国际知名专家Norbert Kaiser教授和德国夫琅禾费研究所光学镀膜部门经理Ulrike Schulz教授进行专题讲座，同时，组委会还邀请国内光学薄膜领域的知名专家及学科带头人到会作专题技术报告。对促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。更多详情请浏览网站www.cnoenet.com。
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$ K" o- M: p3 E# H( ^% W; d主办单位：                                                      承办单位：

中国宇航学会光电技术专业委员会              中国宇航学会光电技术专业委员会
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. L. r2 O$ B! B& y3 S, d                                                                          天津市薄膜光学重点实验室
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. N7 \& c4 v6 ~' A% @会议主题：
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! f3 ]; s; t; B     ★  世界著名光学薄膜研究所德国夫琅禾费研究所光学薄膜资深专家来华公开讲座，介绍国际最先进光学薄膜制造技术和理念，面对面聆听大师的声音。
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+ q. o! z  }9 L     ★  国内专家探讨我国的高端特种需求光学薄膜的研究进展。
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6 K9 Q  p+ ~5 F特色活动：

中外专家答疑研讨会                                                            光学薄膜技术产学研交流会
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) M# t/ V) k8 z/ O! E; K0 i4 S您可以带着理论研究和工程应用中的难题来参会，       来自国防、科研、高校的资深专
  b$ ?6 c1 I1 m# X  b2 i1 B$ V* r
. h5 O3 M6 V' ?. a资深专家将面对面为您答疑解惑。                                    家与企业精英齐聚，寻找技术交

                                                                                                流与产品供需的合作机会。

外方专家讲座：
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德国夫琅禾费研究所副所长Norbert Kaiser教授
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: I/ x1 a: {3 a" R讲座题目：Physics and Technology of Optical Thin Film Deposition
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( }- k/ l! C% @' w8 r" q+ X★  定义光学材料的性能及审查光学镀膜的类型

★  干涉膜理论及拇指快速观察膜性能的应用规则
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★  解释基于不同性能和成本的真空技术的原理
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★  确定与膜性能相关的基本结构
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★  讨论薄膜表征方法和实用评价技术

' G  n# j- F1 X7 s% j★  利用商业软件检测现代设计理念

. l5 e" N2 p+ N4 p★  讨论光学镀膜技术对比与性能和成本的工业需求

; B, u! \- T0 j4 k$ v7 i, H# y★  讨论国际趋势
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德国夫琅禾费研究所光学镀膜部门经理Ulrike Schulz教授

3 k: L2 ~- M5 |8 n2 f" ]7 T" p讲座题目：Plastics Optics - Coatings and Antireflective Structures

6 T) z6 n; a7 ]! Z* V& Z* @9 E3 n★  确定最适合应用的聚合物材料

★  介绍聚合物真空镀膜的特殊工艺
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★  评价用于抗反射聚合物表面的不同技术
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) `) D* O5 l* \/ P- O$ l★  为塑料光学定义合适的表征工具和测试程序


( E" K, U* @0 L8 i) W国内专家特约报告：

  @+ c; ]+ A6 J1、SiO2 薄膜特性研究新进展 ——季一勤 研究员（天津津航技术物理研究所）

2、高反射镜的激光诱导损伤研究——王占山 教  授（同济大学）
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; I* T: I; ~; X: P3、紫外光学薄膜技术及进展——李斌成 研究员（中国科学院光电技术研究所）
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4、193nm薄膜研究进展——高劲松 研究员（中国科学院长春光机所）
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会议注册：

       请于9月30日前登陆http://www.cnoenet.com/2012bm/index.html，填写注册表，在线报名。
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       会议注册费3200元/人（包括会议文件、专家讲义、餐费、会议杂支费），9月10日之前办理汇款优惠为3000元。办理汇款时请务必注明“姓名+薄膜会议”。

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* t9 A( K. ?8 g5 o2 ]组委会联系方式：

       秘 书 组：邓  伟     022-58625001          邮  箱：conf@cnoenet.com
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       会 务 组：时  洁     022-58625242         

       通信地址：天津市南开区225信箱32分箱，300192    传  真：022-23666400

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  汇款账户:

" u" g1 N! b7 }& ~" W$ q, T$ L       户    名：天津宇航光电会议服务中心  
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  |9 x6 }' G2 F( X$ A& u4 @       开 户 行：中国农业银行天津华苑软件大厦支行
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       银行账号：200401040023473

       邮汇地址：天津市南开区225信箱32分箱，300192（邓伟收）