镀膜指示书管理办法

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《镀膜作业标准书》管理标准

1.      《镀膜作业标准书》必须包含以下项目：机种名称、程式名称、加工流程、面别、伞孔规格、镜片材质名称及其折射率、加工机台、蒸着温度、本底真空度、使用药材、测试片、分光仪等，详见附表一 镀膜作业标准书.xls；《镀膜指示书》必须包含以下项目：机种名称、程式名称、加工流程、面别、伞孔规格、加工机台、蒸着温度、本底真空度、测试片、分光仪、担当、数量、镀膜批次号等，详见附表二镀膜指示书.xls。《镀膜作业标准书》以机种图面与加工流程表为要求标准，结合实际生产能力与生产水平而制定的作业标准；《镀膜指示书》是镀膜作业标准书的简化形式，其包含的信息多为《镀膜作业标准书》的一部分，主要起方便现场识别与指导现场作业之作用，因此就有：图面→《镀膜作业标准书》→《镀膜指示书》的逻辑顺序，例如机种DL000806999，其作业标准书与镀膜指示书的制定过程既有如下的逻辑顺序，详见附表三图面－标准书－指示书.xls。

2.      若图面有错误、表达有歧义或不清晰时，须第一时间联系图面作成人员（或其他相关负责人员）检讨、修订。

3.      对有特殊要求之机种，镀膜标准书、镀膜指示书备注栏需标明加工注意事项。

4.      《作业标准书》、《镀膜指示书》中的分光规格必须与图面分光规格包含的信息完全等价，分光规格书写应清晰、简洁、规范。若图面有其他要求，也应如此。

5.      对有面精度要求的机种，若需加镀校正膜，标准书中必须包含校正膜的监控波长、PEAK数，且校正膜的机台条件必须与相应的多层膜中的300相同，此外，无特殊情况时，校正膜应与相应多层膜同机台加工。校正膜程式无需在调程系统内设定。

6.      《作业标准书》的机种名对应图面部番名、《作业标准书》图番名对应图面机种名。

7.      《作业标准书》、《镀膜指示书》中的温度依次指镀膜伞温度、监控片温度、侧壁温度，如温度一栏为“130/100/0”则表示镀膜时，镀膜伞温度为130℃，监控片温度为100℃，侧壁温度为常温℃。若有程式需部分冷镀部分热度，温度书写格式应如：“0//350/350/350”，其表示常温冷镀在先，冷镀后机台加热，加热镀膜时伞温度为350℃，监控片温度为350℃，侧壁温度为350℃。

8.      《作业标准书》中的药材栏，从上到下依次为第一面、第二面等的药材代号，其顺序也严格按照程式膜层中的药材先后顺序排列，药材规格栏注明此面程式使用药材规格，空白栏用“/”填充，表示此程式不含此药材。                                                                                                                                                                              

9.      镀膜标准书中的程式名称应严格与调程系统、机台保存系统中的程式名称相同（含有中心波长偏离量的追加值时除外，如：程式U415I650，中心波长偏离量SHI为22，则标准书中的程式名称为：“U415I650”，调程系统中的名称为“U415I650”，机台保存系统中程式名称可为：“U415I650(22)”）。

10.  镀膜作业标准书作成之后须经由试作主管检印并签字，再经由课长承认并签字，才可生效。

11.  作业标准有变更时，在原标准书中应及时追加变更内容，且在镀膜指示书打印系统中及时更正，并书面联络镀膜现场及分光测试人员。

12.  镀膜作业标准书电子档、镀膜指示书电子档作成之后，须再次与图面校对，OK后打印并存档。

13.  镀膜程式命名原则。镀膜程式命名时应尽量遵循以下原则。

（1）程式名字符数最多八位，且只能包含字母、数字、间隔符，第一位不得为间隔符。

（2）单层膜系以系列标示符，加中心波长数为名，如：“S520”，“S”为MgF2系列标示符，“520”为中心波长数。

（3）多层AR膜分为M、F、MH、SH、TS系列，以程式所适用的折射率数值为名，如：“M57”，其中“M”为系列指示符，“57”为适用折射率数值；“TS79”，其中“TS”为系列标示符，“79：为适用折射率数值（必要时根据品质需要在后面加上字母区分）。若追加SiO2保护层，则在原程式名后面增加标示符大写字母“S”为新程式名，如：“M52S”。

（4）对于分光规格有角度要求的AR膜程式，程式命名时在符合（2）、（3）的前提下，在程式名后追加“－**”（“**”为测量最大角度，如需18°、      30°、45°测量时，“**”即为“45”）。

（5）IR/UV系列以IR/UV＋客户要求的50%点的中心波长为镀膜程式名，如：对于UI系列滤光膜以“UabcIdef”的格式命名，abc和def分别表示分光规格要求前后50％点所对应的波长；对于程式优化的同规格程式，则以“UIabcdef”的格式命名。

（6） 金属高反膜以“****-××L”、或 “****-××H”、的格式命名，其中“****”为机种名或机种别名关键字符，“××”为所镀金属化学符号（如：Ag、Al等），L、H分别表示为完全冷镀（一般为无分光要求的三层或四层膜）、部分冷镀（一般为有分光要求的多层膜）。例如：“OGM-AgH”，为先锋镀银机种，前三层冷镀，剩余层热度，有较严格的高反射要求。

（7） 校正膜以“**** -XZM”的格式命名，“****”为机种或机种别名关键字符，如：机种：DL000806999，机种别名：OGM8118，则校正膜程式名为：8118-XZM.。

（8） 程式名中应尽量包含机种、分光规格等重要信息。有特殊要求之机种的镀膜程式，可根据要求单独命名。分光规格不同，程式名应尽量不同。新设程式应尽量不与原量产程式同名。