蒸发镀膜的讨论

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首先，蒸发镀膜是什么？大家交流交流，下面是转载的一些技术论坛的说法。供参考
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  i+ v' ?- T% O; R蒸发镀膜应该说是比较成熟的镀膜工艺，当然对于铝膜来说应该没有什么太多的技术性问题，因为已经有多年的历史，最初使用比较多的是蒸发镀膜。当然根据加热方法的不同又有不同的方法，实用的是（塑料薄膜）电阻加热。至于其它镀膜则是需求不同有所区别。
2 V$ ?) A2 i) R+ M中频镀膜发展较晚，但它的优点也显而易见，主要是其镀膜速度较快，而且相对于蒸发镀膜有更好的可控性，同时能够镀绝缘膜，很容易实现反应镀。当然也有其缺点，最主要的是控制性和膜质的问题。
很多人认为溅射就是低蒸发率,但经我们这几年来的经验,其实中频溅射的蒸发率相当的高,并且有很好的结合力,目前很热门的手机按键是朝这各方向发展,镀膜後不用再喷涂透明保护漆,耐摩耗颜色多样选择,要达到这种量产工艺,当然设备上需要有更多的配置,包括清洗.置换.结合力.颜色的稳定度.温升的控制等都需要友好的控制手段。
塑料镀膜最重要的一个环节是前清洗和活化技术,再来是镀膜过程中如何控制温升问题,
$ m  n$ J8 \' ?" F: [# D7 N9 U清洗与活化我们用的是双级脉冲电源,产生高离化率的等离子体,等离子体的气体选择与被镀物有关系,换句话说是想除去的是何种物质,而决定加入哪种气体,重点是要把工件表面物质置换出来,使後面沉积薄膜能有效结合,
真空薄膜是一个多方面专业的工作,跟很都学科关系密切,流体力学 物理现象 化学现象 电学 材料科学 磁场的关系 胜至於跟粒子量学也相关等等,算是一门多方面学科,所以很能吸引我们大家去探讨
中频溅射镀膜有它一定的优点,但也有一定的缺点,最终看取舍哪方面对整个过程有效,目前我们的方向还是在量产过程,如何得到稳定重复的一个工艺,并且得到一定范围的膜层,膜层指标定的比较严苛,一般颜色要求LAB值得平方根均值小於2.5的范围,膜厚.耐蚀性能多有很高的要求,有这些要求就必须有很多手段去实现一个好的膜层,
/ `3 v4 R+ p% [6 J8 W镀前处理是很重要的工序,关系薄膜的效果,除了前处理的要求要做到尽善尽美,在真空下镀膜前的活化与清洗对薄膜的结合力,也是很重要的一个工序,我们一般要求镀膜前必须辉光清洗,达到深层清洗 活化 排除真空室的杂气,
辉光清洗有很多方法,直流辉光清洗 单级脉冲辉光清洗 高压辉光清洗 RF辉光清洗
双级脉冲辉光清洗 这些方法分别对各种不同工件起不同的作用,工艺的选择与偏压电源的选择,都是系统应考虑的

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苏州普京真空技术有限公司生产销售如下光学镀膜材料：
氟化物：氟化镁(MgF2)，BaF2（氟化钡）,CaF2（氟化钙）,SrF2(氟化锶），SeF3(氟化钪），YF3(Ca)(氟化钇）,YbF3(Ca)（氟化镱）,LaF3（氟化镧）,LiF（氟化锂）,NdF3（氟化钕）,Na3AlF6(冰晶石)，Na5Al3F13(锥冰晶石）,AlF3(氟化铝）, ZrF4（氟化锆),HfF4(氟化铪),InF3（氟化铟）,TmF3（氟化铥）,DyF3（氟化镝）,HoF3（氟化钬）,LuF3（氟化镥）,ErF3（氟化铒）PrF3(氟化镨），PbF2(氟化铅),CeF3(氟化铈），GdF3(氟化钆），SmF3(氟化钐），EuF3(氟化铕），氟化铽（TbF3)，碲化铅（PbTe）

氧化物：二氧化硅(SiO2),一氧化硅（SiO）,五氧化钽 (Ta2O5), 五氧化二铌（Nb2O5），三氧化二铝（Al2O3）,氧化铈(CeO2)， 五氧化三钛（Ti3O5）, 二氧化钛（TiO2）, 一氧化钛(TiO)，三氧化二钛(Ti2O3)，紫外级氧化铪（HfO2），氧化锆（ZrO2），氧化镁（MgO），三氧二化铁(Fe2O3)，Y2O3(氧化钇),Cr2O3(氧化铬)，In2O3(氧化铟)
硫化物硒化物：硫化锌（ZnS）, 硒化锌（ZnSe）
  H9 {+ S3 f2 F; `混合物：硅铝混合物（起到加硬效果，用在塑胶镜片上），锆钛混合物，锆钽混合物，钛钽混合物，氧化铟锡（ITO），H4（钛酸镧La2Ti2O7）替代品。
我公司镇江工厂从事精密光学镀膜材料生产近十年，有近十五台真空烧结炉，2台真空镀膜机做产品的检测，还通过第三方检测（SGS,CTI）,质量有保证，价格低廉。给客户最好性价比的产品。目前比较典型的客户有：舜宇光学，嘉光，水晶光电，北方光电，上海光联，普立华等。
; @. R# m1 r! @$ }5 T) x1 x好消息：我公司最近新研发的低气Ti3O5(五氧化三钛)颜色呈紫黑色，,放气量低，不喷溅，成膜后光学表面光洁度可做到10/10，质量与日本的CANON OPTRON的OS-50相当，价格上却便宜很多，性价比特别高。适合做高端的红外截止滤光片（IR-CUT）、高反膜等。
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