多弧离子镀与磁控溅射，蒸发镀之间的区别

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多弧离子镀与磁控溅射，蒸发镀之间的区别
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! r# k  I4 V/ v# D4 z是转载的说法，有不对的地方请担待并指正。
2 G3 y( J6 L# D$ k+ Y- ^三者的区别在于工作原理不同
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- i7 p/ y8 \! ~, U+ L/ ?" ~蒸发镀：通过蒸发镀加热使膜材蒸发。蒸发镀有电阻加热式、电子束加热式、感应加热式。

, R% h: R$ q7 K, e磁控溅射镀：磁控靶是静止电磁场，磁场为曲线形，以磁场改变电子运动方向，是展于高密度的等离子体异常辉光放电。其特点是溅射能量低，基本温度低。

多弧离子镀：多弧靶是电弧蒸发源，是冷阴极电弧放电型自持自离化的固体蒸发源。其特点是离子能量高，沉积速率高，膜层改密性高，单固性好。
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蒸发镀主要做玻璃和塑胶，俺不懂，毛主席老人家说得好，没有调查就没有发言权．在此说说磁控和多弧
磁控能对多种金属进行溅射，膜厚和颜色比较容易控制，膜层颗粒细能满足良好外观要求．沉积时间较长，膜层耐磨性不如多弧．
多弧的优点就是磁控的缺陷，还有就是对有些靶材镀出来外观效果不理想如金，不锈钢等
不过二者结合起来用的也大有人在．

2 ^! e+ ~6 f1 U' `) g& x1 Z塑胶产品CPC或ABS材料表面装饰性镀膜，若要单固性好些就要采用磁控溅射镀；若要表面光亮些就有蒸发镀