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导电氧化是电子产品铝构件的常用处理工艺。根据产品不同情况的需要，有无色膜和彩色膜等方法。
2 A8 y2 [9 u! X4 G 6 H* y' g% \5 h! s7 A
(1)无色透明导电氧化, B5 {! \/ o% h1 X' D0 p" n6 P
0 h0 R+ L! d. n3 C+ s磷酸22g／L' L) l j0 \. t& {' [
硼酸2g／L' K* \' B+ l& B6 Y. ]
铬酐4g／L
9 P5 r$ C8 A) K/ E8 c温度室温# e. K6 {" D" e; l( l1 @
氟化钠5g／L1 ^# M0 A6 r. E0 S) z' k) j
时间l5～60s- s3 r6 \; C* a q# V4 E8 \
; \( z$ n( L/ N' F3 f
7 J2 h" [9 M: x# @; }6 z膜层的厚度约在0．3～O．5μm，导电性能良好。
. G9 x6 s+ f8 d5 y x
! \8 A9 x7 U3 q4 o* C; E" O2 a (2)彩色导电氧化; k- v- Q& U9 `8 {
) E# ?& ]6 B# h1 j
铬酐4g／L: \5 E2 A6 Y! m* u0 |
温度30～35℃
0 T4 P1 B9 g e氟化钠lg／L
/ K0 c* a& J; I/ m9 }6 ` P时间25～30s
( Q, R6 U$ f4 N3 D铁氰化钾0．5g／L |
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发表于 2012-2-25 14:52:16
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