导电氧化膜工艺

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导电氧化是电子产品铝构件的常用处理工艺。根据产品不同情况的需要，有无色膜和彩色膜等方法。
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0 t9 e( Q. E5 k/ C; X2 r (1)无色透明导电氧化

2 v! y, C2 |6 a' \" A* O& i! `磷酸22g／L
硼酸2g／L
6 D+ x+ f+ b& Y1 C# T; d铬酐4g／L
& i3 U3 n' a) a  O8 I温度室温
氟化钠5g／L
+ B9 k( z. Y$ n* y6 I时间l5～60s

* ~, X6 s% A) S5 @" q* p' }: N
3 ?* a0 T2 |+ B. B! d6 J膜层的厚度约在0．3～O．5μm，导电性能良好。

(2)彩色导电氧化
2 v( o! u; @, i2 L+ W3 v$ t6 J: v
铬酐4g／L
% w' V$ U8 `2 A: G5 o温度30～35℃
氟化钠lg／L
时间25～30s
: }: [' R* `4 o0 e; g2 m  H% n铁氰化钾0．5g／L

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