光学薄膜测厚仪的原理

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2007-3-17 01:23 提问者：孙绪伟 | 悬赏分：30 | 浏览次数：2115次
5 D+ M! T+ o. g2 K* i- P& f我是一个初学者
7 ]" G) m  x) {" H; @2007-3-17 01:24 满意回答
" u, V; C+ |9 s6 D/ u; @9 i: t光学薄膜测厚仪 (SpectraThick Series) 的核心技术介绍和原理说明
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  SpectraThick series的特点是非接触, 非破坏方式测量，无需样品的前处理，软件支持Windows操作系统等。ST series是使用可视光测量wafer，glass等substrates上形成的氧化膜，氮化膜，Photo-resist等非金属薄膜厚度的仪器。

( N9 s4 k, h7 E; `& b6 @& _9 M测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (wafer或glass)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。SpectraThick series就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。
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仪器的光源使用Tungsten Lamp，波长范围是400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一，有image processs功能，是超越一般薄膜厚度测量仪器极限的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的最小直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量极限 (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图 (Thickness Map) 也可一次测量得到，使速度和精确度都大大提高。这一技术已经申请专利。

K-MAC (株) SpectraThick series的又一优点是一般仪器无法测量的粗糙表面 (例如铁板，铜板) 上形成的薄膜厚度也可以测量。这是称为VisualThick OS的新概念上的测量原理。除测量薄膜厚度外还有测量透射率，玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻，接触角度 (Contact Angle) 等的功能。
) V! k$ [: y) A' z8 S, P9 R产品说明
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) |3 Q7 U) ?2 `* O本仪器是把UV-Vis光照在测量对象上，利用从测量对象中反射出来的光线测量膜的厚度的产品。
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这种产品主要用于研究开发或生产导电体薄膜现场，特别在半导体及有关Display工作中作为
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In-Line monitoring 仪器使用。
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产品特性

1) 因为是利用光的方式，所以是非接触式，非破坏式，不会影响实验样品。

2) 可获得薄膜的厚度和 n,k 数据。
   
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8 G1 L4 L5 f/ E0 S6 N# q: d3) 测量迅速正确，且不必为测量而破坏或加工实验样品。
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4) 可测量 3层以内的多层膜。
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5) 根据用途可自由选择手动型或自动型。
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6) 产品款式多样，而且也可以根据顾客的要求设计产品。

7)可测量 Wafer/LCD 上的膜厚度 (Stage size 3“ )
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5 L- C3 }# \6 G9 P$ ~* w8)Table Top型, 适用于大学,研究室等
! w6 t4 l/ @$ C( U# r; g参考资料：http://alco.testmart.cn/ProductFile/Html/CN/2005/2/3/64a1e3d6-07e1-4d8e-88b7-c03ef1554ca4.html
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% |/ Y; G) V/ V; D5 a/ z9 j( y向TA求助
5 T. r9 a0 z1 q1 M! p回答者： 成都龙泉洛带 | 二级
擅长领域： 互联网 C/C++ 理工学科
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5 [1 G. R$ @- j' \6 B8 e提问者对于答案的评价：
. a  t7 i- k5 r: m+ s+ q谢谢，这给了我很大的帮助，可还是有点不太具体

guwu830117

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