制备参数对二氧化铪薄膜应力及光学特性的影响

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【摘要】 二氧化铪(HfO2)是一种优质的高抗损伤阈值薄膜材料,是制作高功率激光系统的薄膜器件的首选高折射率薄膜材料。HfO2具有附着力好、机械性能和热稳定性好等特点,在近紫外到中红外波段(230nm-10000nm)都具有良好的透过性,此外二氧化铪的化学稳定性也很好,常用作Al、Ag等金属膜的保护膜。二氧化铪在光学、光电子器件、激光系统减反射薄膜和气体、磁场探测器方面均具有广泛的应用,是近年来薄膜材料研究的热点。在薄膜制备过程中产生的应力对薄膜的光学性能和牢固性都有很大影响,严重时会造成薄膜开裂、脱落。HfO2薄膜最常用的制备方法是电子束沉积法,因此研究电子束沉积过程的不同制备参数对HfO2薄膜的应力和光学特性的影响具有重要的实际应用价值。本研究利用电子束沉积法制备了不同沉积温度、氧分压、沉积速率和退火温度的HfO2薄膜样品,系统研究了不同制备参数对HfO2薄膜力学和光学特性的影响。利用ZYGO干涉仪研究了不同制备条件下样品的应力变化情况；利用UV3101-PC分光光度计和Essential Macleod薄膜软件研究了HfO2薄膜的光学常数；利用D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-670... [url=]更多[/url][url=]还原[/url]

; S/ B. v( @- x7 J5 |- h3 _8 n0 v【Abstract】 Hafnium dioxide(HfO2) is a high quality anti-damage threshold thin film material, it is the first choice high refractive index material which to produce high-power laser system thin film devices. Hafnium oxide has good adhesion, mechanical properties and thermal stability characteristics, from the near ultraviolet to the infrared spectrum(230nm-10000nm) has perfect permeability. In addition, chemical stability of hafnium dioxide is also very good, so it is often used as protective film for alumi... [url=]更多[/url][url=]还原[/url]
2 U; h& O5 P7 P1 l9 v  j+ g【关键词】 薄膜光学； 二氧化铪； 残余应力； 本征应力； 光学特性； 微结构； 表面粗糙度； 折射率； 柯西公式；
【Key words】 hafnium dioxide； residual stress； intrinsic stress； optical properties； microstructure； surface roughness； index of refraction； Cauchy formula；
http://115.com/file/dp22ghqn#
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longmin

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