等离子体制备低表面能薄膜性能研究

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【题名】  等离子体制备低表面能薄膜性能研究     

1 [- R2 P7 K, {' S5 z$ `) _【关键词】 等离子体;;等离子体聚合;;结构性能  

8 Q5 o% S% W8 K. b【摘要】 以六甲基二硅氧烷为反应单体,采用连续与脉冲射频(RF)等离子体两种放电模式聚合低表面能薄膜,研究了连续放电不同功率、脉冲放电不同脉冲宽度和间隔对聚合薄膜性能的影响.通过对薄膜性能的表征:接触角的测量,红外光谱、X 光电子能谱和原子力显微镜的结构和表面分析,发现在低输入功率和脉冲等离子体大占空比条件下,可得到表面能低、疏水性能好、表面结构可控的低表面能薄膜.  

# u2 y, w) U' v+ |【会议名称】 中国物理学会静电专业委员会第十二届学术年会