溅射制备Ta_2O_5薄膜的表面形貌与光学特性

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溅射制备Ta_2O_5薄膜的表面形貌与光学特性 % V. s! b& H3 g' [3 g9 X8 ^

【英文篇名】	Surface morphology and optical properties of Ta_2O_5 films prepared by radio frequency sputtering
【作者中文名】	[url=]狄国庆[/url];
【作者英文名】	[url=]Di Guo-Qing （Jiangsu Key Laboratory of Thin Films[/url]; [url=]Department of Physics[/url]; [url=]Soochow University[/url]; [url=]Suzhou 215006[/url]; [url=]China）[/url];
【作者单位】	[url=]薄膜材料江苏省重点实验室苏州大学物理科学与技术学院[/url];
【文献出处】	物理学报, Acta Physica Sinica, 编辑部邮箱 2011年 03期   0 _% u0 f" K8 c% K! A期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【关键词】	[url=]Ta2O5薄膜[/url]; [url=]光吸收[/url]; [url=]表面形貌[/url]; [url=]磁控溅射[/url];
【英文关键词】	[url=]Ta2O5 film[/url]; [url=]optical absorption[/url]; [url=]surface morphology[/url]; [url=]RF sputtering[/url];
【摘要】	在室温条件下利用溅射Ta2O5靶材的方法制备了Ta2O5薄膜,并采用将薄膜两侧的反射率光谱进行比较的简便方法分析评估薄膜的光吸收,发现溅射制备薄膜的额外光吸收源是溅射引起的缺氧形成的,选择适当的溅射功率和含氧比例的工作气体能有效地消除这些缺陷、不用任何加温处理就可制备得到表面平坦和高致密度的高品质Ta2O5薄膜.
【英文摘要】	Ta2O5 films were deposited at room temperature by radio frequency(RF) sputtering with the target of bulk Ta2O5,in Ar or Ar-O2 mixture atmosphere. The reflectivity spectra measured from two sides of a film are compared to evaluate the optical absorption of the film. It is found that the excess optical absorption arises from deficiency in oxygen during sputtering. These defects can be eliminated effectively by selecting adequate Ar-O2 mixture and power for sputtering,and unabsorbing Ta2O5films with compactnes...
【基金】	江苏省高校自然科学重大基础研究项目(批准号:05KJA43006)资助的课题~~
【DOI】	CNKI:SUN:WLXB.0.2011-03-115

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资料太好了，很感激楼主