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[求助] 关于磁控溅射制备非晶薄膜的问题

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发表于 2011-5-3 06:44:00 | 显示全部楼层 |阅读模式

用磁控溅射制备非晶氧化物薄膜，基底温度是不是不能过高，250摄氏度可以不？

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