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真空产品生产厂家、真空行业的科技工作者每时每刻都应该掌握自己工作领域内最近、最新的学术动态,研究自己工作范围内的前沿课题,以便给自己定位,确定自己的对策,找出自己前进的方向,积极参加市场竞争,不断改革创新,才能立于不败之地。尤其是我国加入WTO之后,真空科技工作者的目光应该更远大,获取科技信息就显得更为重要,它是企业存在的保障,是科技工作者的生命线。
% N `$ h/ Q6 b$ _1、真空泵
8 k" m( [5 [+ b9 O& O 真空泵的种类很多,可按下表进行分类。& J5 z# {' U- ^* `: N [2 J i c5 V" E

9 B. S& X5 r; M! Z% N: ^9 n5 Q5 Y! M 真空泵的前沿课题主要有:①号称21世纪绿色真空泵的各种无油泵(干泵)的研制;②喷射泵、扩散泵的理论研究与设计计算;③探索创新泵的工作原理,研制新型泵。
6 v/ a* {+ l3 z) O- O0 r0 h2、真空计量
8 j1 h& C7 d. j0 ?' K6 i, E9 D 真空计量目前研究的主要内容有:
: E; s$ o j+ n, c+ K7 g ①真空度(全压力)测量与校准;( Q2 A# n' C9 t; Q+ l) x
②真空质谱分析,分压力的测量与校准;4 V" W7 P! _# K# O
③气体微流量(漏率)的测量与校准;' [) |- @6 f+ D8 N0 y" p
④材料放气率的测量;4 g& M" W' z8 W, ]5 h6 M7 y/ @/ q/ S. J
⑤真空泵抽速测量。* d2 }" U5 }8 f4 c5 z
真空计量研究的前沿课题可归纳为:
2 b o( h. k5 K1 o; p( s$ J# ~( k ①研究非平衡态分子流理论,非平衡态分子流校准系统,超音速分子流校准系统,为空间真空测量和校准解决难题;6 S& g; D6 Z2 A' A( ^) ~& Y
②研究微小漏气率测量、校准技术;
# G( B/ B4 Y8 y6 f ③研究解决极高真空的测量、校准问题,寻找新的测量理论;
5 n* k- o0 W% i6 o6 D/ Q" M ④研究材料微量放气率测量与放气成分分析技术
0 X( X/ e: |, X6 m ⑤研究解决扩散泵返油率的测量问题,寻找新的测量方法。
c4 j" ^( B6 V. p* M; `/ X. G' o3、真空镀膜
: ?( L: T4 e' a: @ X' | 真空镀膜是真空科学技术领域中最活跃的一门应用技术,它涉及到镀膜设备、工艺、膜材、靶材等诸多方面,薄膜的种类很多,这里只能简单论述其中的一部分。
: R2 q3 l/ v1 V; {3.1、硬质薄膜/ H5 r% C! h0 Z+ q. {/ [* w3 b
自然界中金刚石最硬,立方氮化硼第二,碳化硼第三。
* l: s- T3 H- G+ a& s ①金刚石膜(CVD法生产): 热丝CVD法金刚石膜沉积速率可达 2.5μm/h,HV40~50GPa;& D4 N8 ]- s O7 y4 m) a: _
②B4C 碳化硼:用磁控溅射法生产,高温热稳定性好,1100℃以上,它是最硬材料,HV50.4gPa;
4 u& p* Z" r+ \! C. X5 y" K' w ③复合膜:TiN-第1代;TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多组元复合膜和多层膜体系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化钽/氮化铌),HV55.6GPa,发展成多层纳米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化锆)。发展方向:提高膜的韧性、耐磨性、耐热性、耐蚀性。5 ]$ S" ^9 l% ?# @7 D8 L
3.2、金刚石涂层刀具
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4 j* j3 y, m9 T 研究方向:①提高金刚石涂层与基体之间附着力,设计中间过渡层,开发多涂层刀具; ②增大沉积面积,提高生长速率; ③研究PVD法金刚石涂层理论和工艺。
2 J# a7 ~1 A1 P ^* w3.3、光、电、 磁各种功能膜+ o& P3 F, R5 }5 u; T5 ^
这些功能膜种类繁多,性能各异,这里仅举部分例证。! y! }: ^, L4 m- a
①发光薄膜:Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射频溅射法);2 w1 g M N! ]* R/ M; C1 O
②冷光膜- 可见光区高反射,红外光区高透射,实现冷光照射,达到保护被照物目的;7 }( [8 n3 r/ f" Y
③有机光电薄膜:金属酞菁膜:CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧钛具有极高光敏系数;- D* C! F. y% s. C' y
④光电功能复合膜- Ag-Au-SiO2,Ag-BaO,Ag-SiO2,Ag-MgF2,其中Ag-MgF2纳米金属陶瓷薄膜具有光吸收特性,Ag-BaO具有光电发射特性; k G9 h) m- o6 T
⑤透明导电膜:ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al),IMO(In2O3:Mo);
l! K2 q' K# ^9 N9 p ], I% h2 y ⑥光致变色薄膜:18烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下变色,在可见光照下恢复无色,可用于光信息存储、光控开关等;
/ V6 r2 r* V, \- {3 g( ] ⑦磁光记录薄膜:PbFeCo(铅铁钴);) T$ a/ R# j i0 N4 r
⑧超大规模集成电路(VLSI): 在Si基片上溅射Cu或Al,实现多层布线;1 p; J" O; f: q8 z; L
⑨半导体膜:SiC、ZnO;
! C. U: C0 U$ t' F4 z ⑩其它光电磁等特性功能膜:
8 U: t9 l, }& b/ Y: _7 p) ~ LiF、CaF2用于平面型场发射显示器;
$ k; a* V* \ O Fe/Cr多层膜有巨磁电阻(GMR) ;1 N2 q6 W6 x+ n- Q) O
Fe=SiO2膜具有隧道磁电阻效应(TMR);7 a( A1 [1 F4 g: K S/ t
TiO2膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化功能;4 E1 Q6 A' N, t2 o$ Q, Y; {* d1 ~
Cu-SCN-Al(有机络和物)有极性记忆效应;
2 m7 s: K% l, | 三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)单晶是一种可以用来进行高密度信息存储的有机复合材料;
" P* T2 ?; n, B/ ~ YBCO属高温超导(HTS)膜。
: z+ V1 t1 q* b) L; O6 S% {3.4、装饰膜
7 O% Q# n) _2 U- y/ q 研究方向:①对薄膜材料的研究正向复合化、 多种类、高性能、新工艺方向发展②研究复合膜的设计、性能检测、制备方法; ③研究薄膜应力( 牢固度) ;④研究大面积靶材制作技术,提高靶材利用率。- Q1 ^; j( ^% ~" ]- O
3.5、前沿课题2 P% Z [5 D R# g( U' Y) z' Q
①发现具有新特性的新的膜层材料;+ @ ]! p( h) a9 M8 v
②设计具有特殊功能的新的膜系(复合膜);
' |0 s) |$ S9 l: s7 \, u5 r ③发展高科技产业,例如集成电路产业,信息存储产业,平面显示器产业,包括液晶显示器(LCD),等离子体显示器(PDP), 场致发射显示器(EL);
$ |! h0 h7 d: ?7 r- G7 N ④深入膜层结构与特性关系等理论研究。+ U" o9 ]! D1 V
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