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真空产品生产厂家、真空行业的科技工作者每时每刻都应该掌握自己工作领域内最近、最新的学术动态,研究自己工作范围内的前沿课题,以便给自己定位,确定自己的对策,找出自己前进的方向,积极参加市场竞争,不断改革创新,才能立于不败之地。尤其是我国加入WTO之后,真空科技工作者的目光应该更远大,获取科技信息就显得更为重要,它是企业存在的保障,是科技工作者的生命线。
5 k5 \6 \7 c* d' s _1、真空泵
% a0 |) X4 P- }3 ]/ j 真空泵的种类很多,可按下表进行分类。
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* @# {9 n9 |! h V2 _( U& i* V 真空泵的前沿课题主要有:①号称21世纪绿色真空泵的各种无油泵(干泵)的研制;②喷射泵、扩散泵的理论研究与设计计算;③探索创新泵的工作原理,研制新型泵。
, }1 ?. G- d! w' w2、真空计量4 d/ o- u6 z; M# s% s/ Z9 P' C8 u
真空计量目前研究的主要内容有:
5 L- Y) S$ E2 B# i+ {4 |* N ①真空度(全压力)测量与校准;
) q2 i# r8 T4 ?( E6 F/ H ②真空质谱分析,分压力的测量与校准;
9 W4 A7 Q- w4 R' x6 _/ {, g2 p ③气体微流量(漏率)的测量与校准;
2 Q0 h/ W# p( s7 n! g6 V ④材料放气率的测量;
7 Z: m! j! c, F! x( R/ K ⑤真空泵抽速测量。+ \ U8 \0 X- z
真空计量研究的前沿课题可归纳为:
* m7 {! }" _% @* z3 u' i ①研究非平衡态分子流理论,非平衡态分子流校准系统,超音速分子流校准系统,为空间真空测量和校准解决难题;
6 O6 T) d# R, _4 I8 @" Z) Y4 B8 b ②研究微小漏气率测量、校准技术;
& V" C1 o& K- D( [$ E& ?1 L6 @ ③研究解决极高真空的测量、校准问题,寻找新的测量理论;
; A/ K/ R& H6 d7 h7 Q! g5 U ④研究材料微量放气率测量与放气成分分析技术+ f1 A* O! C2 p
⑤研究解决扩散泵返油率的测量问题,寻找新的测量方法。
) g! {. H4 {$ B8 g/ H3、真空镀膜
& L4 C; A \# h' y, c" i3 z0 y 真空镀膜是真空科学技术领域中最活跃的一门应用技术,它涉及到镀膜设备、工艺、膜材、靶材等诸多方面,薄膜的种类很多,这里只能简单论述其中的一部分。: [/ z5 r% i5 _7 G& o
3.1、硬质薄膜
! a8 y* T0 n$ H! l 自然界中金刚石最硬,立方氮化硼第二,碳化硼第三。9 }: }+ u3 }1 L X
①金刚石膜(CVD法生产): 热丝CVD法金刚石膜沉积速率可达 2.5μm/h,HV40~50GPa;6 i, r% A) t3 n2 ?5 r% S
②B4C 碳化硼:用磁控溅射法生产,高温热稳定性好,1100℃以上,它是最硬材料,HV50.4gPa;$ ?9 M5 G- @3 t; x& R+ N5 Y' ^+ {
③复合膜:TiN-第1代;TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多组元复合膜和多层膜体系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化钽/氮化铌),HV55.6GPa,发展成多层纳米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化锆)。发展方向:提高膜的韧性、耐磨性、耐热性、耐蚀性。
, ?1 _7 I' D r% L4 b' y3.2、金刚石涂层刀具
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研究方向:①提高金刚石涂层与基体之间附着力,设计中间过渡层,开发多涂层刀具; ②增大沉积面积,提高生长速率; ③研究PVD法金刚石涂层理论和工艺。
' y+ X$ N6 X; Q3.3、光、电、 磁各种功能膜0 ?8 ?6 F" \' h [! |
这些功能膜种类繁多,性能各异,这里仅举部分例证。
; d1 H3 [# d: e# h& | ①发光薄膜:Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射频溅射法);( p; W) d% m) J+ ^% f* l K, g
②冷光膜- 可见光区高反射,红外光区高透射,实现冷光照射,达到保护被照物目的;! k! p2 |# j) R9 i" q5 t
③有机光电薄膜:金属酞菁膜:CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧钛具有极高光敏系数;
1 m5 Q8 m' U; L ④光电功能复合膜- Ag-Au-SiO2,Ag-BaO,Ag-SiO2,Ag-MgF2,其中Ag-MgF2纳米金属陶瓷薄膜具有光吸收特性,Ag-BaO具有光电发射特性;
3 }5 N) q [) d ⑤透明导电膜:ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al),IMO(In2O3:Mo);: `- N" E7 w! O& V# M5 {- v! J
⑥光致变色薄膜:18烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下变色,在可见光照下恢复无色,可用于光信息存储、光控开关等;
4 y/ O4 |- j7 o# R2 [ ⑦磁光记录薄膜:PbFeCo(铅铁钴);
3 x: K( |6 O. a* x# Q2 A ⑧超大规模集成电路(VLSI): 在Si基片上溅射Cu或Al,实现多层布线;
7 m+ p$ ]7 X& C' B2 H5 A& {" M ⑨半导体膜:SiC、ZnO;
K: z7 s) N& H- O/ R/ F& f9 K# x ⑩其它光电磁等特性功能膜:. L& N4 R) N9 m% j" z/ J! ^
LiF、CaF2用于平面型场发射显示器;
7 T1 S# C1 |: `3 t# c/ ^( [3 \' w% B Fe/Cr多层膜有巨磁电阻(GMR) ;
( ~7 g; |& N2 w0 q j5 h. j( R- f Fe=SiO2膜具有隧道磁电阻效应(TMR);
4 n: {" A/ u/ z0 n( P& b' p TiO2膜具有优良的介电、压电、气敏和光催化功能;7 f; C" ?7 D& d* f
Cu-SCN-Al(有机络和物)有极性记忆效应;$ n9 F! P( t/ N$ D3 f; I
三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)单晶是一种可以用来进行高密度信息存储的有机复合材料;
; R9 K! i2 V1 X' }- S6 u/ G, x* n YBCO属高温超导(HTS)膜。/ O3 N6 b, V# N- L
3.4、装饰膜. t! c; P1 I' Q8 i) ~6 j
研究方向:①对薄膜材料的研究正向复合化、 多种类、高性能、新工艺方向发展②研究复合膜的设计、性能检测、制备方法; ③研究薄膜应力( 牢固度) ;④研究大面积靶材制作技术,提高靶材利用率。
& q* o3 z* `: L% y& B8 ?3.5、前沿课题
( x: y' ]1 J+ J# Z- y ①发现具有新特性的新的膜层材料;% T5 \# G5 N$ e; E- M* W$ g3 q
②设计具有特殊功能的新的膜系(复合膜);' G& |, I/ W7 {5 f
③发展高科技产业,例如集成电路产业,信息存储产业,平面显示器产业,包括液晶显示器(LCD),等离子体显示器(PDP), 场致发射显示器(EL);
# R/ K! K. ~3 q+ Z6 r, f' ] ④深入膜层结构与特性关系等理论研究。
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